[实用新型]单面镀膜玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种触摸屏用玻璃，尤其涉及一种高透射的单面镀膜玻璃。

背景技术

镀膜玻璃如今已广泛应用于触摸屏领域，现有的一些用于触摸屏的镀膜玻璃可见光透过率低，反射率高。特别在环境光较强的情况下，画面图像的对比度会大大降低，严重影响着视觉效果。例如，目前普通ITO触摸屏玻璃可见光透过率约86％，反射率8％，在环境光较强的情况下，画面对比度低，图像看不清楚，同时，高反射率导致视觉效果更差，在长时间观看时，也影响着眼睛。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题是：克服现有技术中，触摸屏用的镀膜玻璃透光率低、反射率高而导致视觉效果差的技术问题。

本实用新型提供的解决技术问题的技术方案是：构建一种单面镀膜玻璃，包括玻璃基片，在所述玻璃基片的一面依次重叠沉积Nb₂O₅层和SiO₂层至SiO₂层为外层，或依次重叠沉积TiO₂层和SiO₂层至SiO₂层为外层，所述重叠层外再沉积半导体膜层。

本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是：所述玻璃基片一面的沉积层为五层。

本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是：所述沉积层厚度依次为：Nb₂O₅层或TiO₂层为10nm至30nm，SiO2层为20nm至50nm，Nb₂O₅层或TiO₂层为20nm至50nm，SiO2层为60nm至140nm，半导体膜层为8至28nm。

本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是：所述玻璃基片一面的沉积层为七层。

本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是：所述沉积层厚度依次为：Nb₂O₅层或TiO₂层为5nm至18nm，SiO2层为20nm至50nm，Nb₂O₅层或TiO₂层为20nm至60nm，SiO2层为5nm至20nm，Nb₂O₅层或TiO₂层为20nm至70nm，SiO2层为40nm至80nm，半导体膜层为8至28nm。

本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是：所述半导体膜层为掺锡氧化铟膜层。

本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是：所述镀膜采用真空磁控溅射方式镀膜。

本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是：所述玻璃基片为透明的钢化玻璃或半钢化的玻璃基片。

本实用新型技术方案的技术效果是：通过构建一种镀膜玻璃，在所述玻璃基片的一面依次重叠沉积Nb₂O₅层和SiO₂层至SiO₂层为外层，或依次重叠沉积TiO₂层和SiO₂层至SiO₂层为外层，所述重叠层外再沉积半导体膜层。由于沉积了多层增透减反膜层，提高了所述镀膜玻璃的可见光透过率。

附图说明

图1为本实用新型五层镀膜玻璃结构示意图。

图2为本实用新型七层镀膜玻璃结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本实用新型技术方案进行进一步说明：

本实用新型构建一种单面镀膜玻璃，本实用新型采用真空磁控溅射方式镀膜，包括玻璃基片，在所述玻璃基片的一面依次重叠沉积Nb₂O₅层和SiO₂层至SiO₂层为外层，或依次重叠沉积TiO₂层和SiO₂层至SiO₂层为外层，所述重叠层外再沉积半导体膜层。

如图1所示，所述玻璃基片1一面的沉积层为五层。所述沉积层厚度依次为：Nb₂O₅层2或TiO₂层2为10nm至30nm，SiO2层3为20nm至50nm，Nb₂O₅层4或TiO₂层4为20nm至50nm，SiO2层5为60nm至140nm，半导体膜层6为8至28nm。所述半导体膜层为掺锡氧化铟膜层。所述玻璃基片为透明的钢化玻璃或半钢化的玻璃基片。