[实用新型]透明导电膜玻璃单面减薄承载装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及玻璃加工技术，具体涉及玻璃基板加工设备，更具体地说，涉及一种透明导电膜玻璃单面减薄用承载装置。

背景技术

透明导电膜玻璃是制造平板显示器(FPD)的主要材料，广泛应用于液晶显示器(LCD)、等离子显示屏(PDP)、触摸屏(TP)、有机发光显示器(OLED)等领域。随着当今世界高新技术产品飞速发展，对FPD面板的轻薄化要求越来越高，因而透明导电膜玻璃的减薄工艺成为了终端显示产品能否实现薄型化的核心问题之一。

所谓减薄就是用化学药液将透明导电膜玻璃基板均匀蚀刻到目标厚度，从减薄方式来讲分单面减薄和双面减薄两种。单面减薄即对玻璃基板的其中一面采取保护措施，对另一面进行减薄；双面减薄即对玻璃基板的两面同时进行减薄。从减薄工艺来讲，目前流行的减薄工艺有浸泡减薄工艺和喷淋减薄工艺，浸泡减薄工艺是把玻璃基板浸泡在化学药液中，然后辅助以鼓泡或抛动等机械手段，其玻璃夹具通常是带有卡槽的蚀刻篮，通过将玻璃基板两端卡在相邻的卡条间实现夹持固定(如专利CN101234853A描述)；喷淋减薄工艺是用水平传输辊作为支撑部件，通过从玻璃输送方向的左右支撑玻璃板两端来实现夹持固定，然后向其表面均匀喷射化学药液，(如专利CN1669967A描述)。浸泡减薄工艺和喷淋减薄工艺相比，后者蚀刻速率快，药液利用率高，得到的玻璃基板厚度均匀，表观缺陷少，因而代表了减薄工艺的主流方向。

采用上述喷淋蚀刻工艺进行透明导电膜玻璃单面减薄时，其夹持治具是该方法实施的关键。一方面要保护镀导电膜面使其免受化学药液侵蚀；另一方面要实现另一面没有任何遮挡物体的夹持状态以保证减薄的均匀性。现有技术的做法是在玻璃基板进行化学减薄前在无需被蚀刻的表面涂覆掩模作为保护层，然后通过从玻璃输送方向的左右支撑玻璃基板两端的输送辊实现玻璃基板的夹持以便完成减薄工艺(如专利CN1669967A描述)。现有技术的缺点如下：

1.增加了保护层涂覆、烘干、去除工序，增加了原材料成本和制作工序，增加了品质控制难度，降低了生产效率。

2.增加了涂布机、烘干机、脱膜机等相应配套设备的投资，增加了生产成本。

3.对导电膜面的保护以及对整个玻璃的夹持是通过两个相互独立的装置来实现的，从而增加了整体制作成本。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术无法实现在固定玻璃基板的同时实现对玻璃镀膜面的有效区域进行保护的缺陷，提供一种透明导电膜玻璃单面减薄承载装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种透明导电膜玻璃单面减薄承载装置，包括密封并全面覆盖平板玻璃导电膜面并将平板玻璃吸附住的真空吸盘；在真空吸盘内部设有密闭的抽气孔道以及与所述抽气孔道相通的真空缓冲腔体，通过抽气孔道与真空缓冲腔体形成的密闭腔室，在与外接真空泵源断开情况下维持真空吸盘与平板玻璃之间的真空度在整个减薄蚀刻流程中吸附住平板玻璃。

在上述承载装置中，所述真空吸盘包括：用作支撑骨架的刚性平板、分别设置在刚性平板上用于贴合平板玻璃边缘的密闭围墙以及用于控制真空吸盘抽气和/或进气操作的常闭阀门；所述抽气孔道连通密闭围墙内部区域与阀门。

在上述承载装置中，所述刚性平板由两块同质平板贴合而成，其中一块平板的一面钻有充当抽气孔道的通孔，另一面铣有充当真空缓冲腔体的多个沟槽，所述通孔与沟槽相通。

在上述承载装置中，所述真空缓冲腔体的体积与平板玻璃面积成正比，并且其比例范围优选介于200cm³∶1000cm²至600cm³∶1000cm²之间。

在上述承载装置中，所述刚性平板上还设置有用于嵌入所述密闭围墙的环形开口沟槽，所述环形开口沟槽的轮廓形状与密闭围墙边框轮廓形状相适，并且二者的平面轮廓形状与平板玻璃的轮廓形状相适。

在上述承载装置中，还包括：固定在真空吸盘底部的传输辊，以及固定在真空吸盘顶部的导向滑轮。

在上述承载装置中，密闭围墙为弹性变形材料，并且其外轮廓尺寸比平板玻璃大2毫米至5毫米。

在上述承载装置中，所述环形开口沟槽槽宽比密闭围墙边框宽度大0.5毫米至1.5毫米，其深度比密闭围墙边框厚度小0.1毫米至0.6毫米。

在上述承载装置中，所述真空吸盘至少吸住和密封所述平板玻璃导电膜面距离边缘1毫米以内的部分。

在上述承载装置中，还包括固定在真空吸盘底部的传输辊。