[实用新型]磁控溅射设备有效
| 申请号： | 200920108623.5 | 申请日： | 2009-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN201395626Y | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 赵鑫;明星;周伟峰;张文余;郭建 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 曲 鹏 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 设备 | ||
1.一种磁控溅射设备，包括固定靶材的共同板和提供磁场的磁靶，其特征在于，所述共同板与磁靶之间设置有调整靶材上方磁场强度的缓冲板。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述缓冲板包括数个以设定间隔依次叠设的调整板，每个调整板与驱动所述调整板移入或移出工作区域的驱动装置连接。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述调整板的叠设层数大于10层。
4.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述调整板的厚度为3cm～5cm。
5.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述调整板为抗磁化金属材料制品。
6.根据权利要求5所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述抗磁化金属材料制品为铜材料制品。
7.根据权利要求2～6中任一权利要求所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述调整板由4个三角形的调整块组成，每个调整块通过连杆与驱动调整块移出工作区域或移入工作区域内并相互对接构成调整板的驱动装置连接。
8.根据权利要求2～6中任一权利要求所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述调整板由2个矩形的调整块组成，每个调整块通过连杆与驱动调整块移出工作区域或移入工作区域内并相互对接构成调整板的驱动装置连接。
9.根据权利要求8所述的磁控溅射设备，其特征在于，相邻二层调整块的移动方向相互垂直。
10.根据权利要求2～6中任一权利要求所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述调整板为整体结构，通过连杆与驱动装置连接。
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