[实用新型]夹具及相应的掩模板组件有效
| 申请号: | 200920070375.X | 申请日: | 2009-04-14 |
| 公开(公告)号: | CN201464800U | 公开(公告)日: | 2010-05-12 |
| 发明(设计)人: | 卢子轩 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
| 地址: | 20120*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 夹具 相应 模板 组件 | ||
1.一种夹具,用以将表膜框架固定在掩模板上,所述表膜框架的上表面具有一卡槽,其特征在于,所述夹具包括:
第一固定部,与所述掩模板相匹配,卡合在所述掩模板的边沿;以及
第二固定部,与所述第一固定部连接,并与所述表膜框架相匹配,插入所述卡槽内以固定所述表膜框架的位置。
2.如权利要求1所述的夹具,其特征在于,所述第一固定部的截面呈形。
3.如权利要求1所述的夹具,其特征在于,所述第二固定部包括一弯折部,其一端与所述第一固定部连接,其另一端向下弯折延伸形成一插入部,所述插入部与所述卡槽相匹配,插入所述卡槽内以固定所述表膜框架的位置。
4.如权利要求1所述的夹具,其特征在于,所述夹具的材质为不锈钢。
5.如权利要求1所述的夹具,其特征在于,所述夹具是一体成型的。
6.一种掩模板组件,包括掩模板以及表膜,所述表膜包括薄膜以及与所述薄膜连接的表膜框架,所述表膜框架的上表面具有一卡槽,其特征在于,还包括夹具,用以将所述表膜框架固定在所述掩模板上,其中,所述夹具包括:
第一固定部,与所述掩模板相匹配,卡合在所述掩模板的边沿;以及
第二固定部,与所述第一固定部连接,并与所述表膜框架相匹配,插入所述卡槽内以固定所述表膜框架的位置。
7.如权利要求6所述的掩模板组件,其特征在于,所述第一固定部的截面呈形。
8.如权利要求6所述的掩模板组件,其特征在于,所述第二固定部包括一弯折部,其一端与所述第一固定部连接,其另一端向下弯折延伸形成一插入部,所述插入部与所述卡槽相匹配,插入所述卡槽内以固定所述表膜框架的位置。
9.如权利要求6所述的掩模板组件,其特征在于,所述夹具的材质为不锈钢。
10.如权利要求6所述的掩模板组件,其特征在于,所述夹具是一体成型的。
11.如权利要求6所述的掩模板组件,其特征在于,所述夹具的数量为四个。
12.如权利要求6所述的掩模板组件,其特征在于,所述表膜框架的下表面具有一凹槽。
13.如权利要求12所述的掩模板组件,其特征在于,还包括密封圈,设置于所述凹槽内,并贴合于所述掩模板。
14.如权利要求13所述的掩模板组件,其特征在于,所述密封圈的材质为橡胶。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





