[发明专利]镀膜装置

权利要求书

1.一种镀膜装置，其包括一个外壳、一个反应装置及一个控制装置；其特征在于：

该外壳的内壁开设有至少一个用于承靠待镀膜基板的基板槽；该反应装置包括一个外筒、一个内筒及至少一个导管；该外筒设置于该外壳内，该内筒设置于该外筒内，该外壳与该外筒之间形成一个主腔体，该外筒与该内筒之间形成一个用于容纳气相沉积气体的第一腔体，该内筒形成有一个用于收容溅射靶材的第二腔体；该外筒开设有至少一个第一通孔及至少一个第二通孔；该第一通孔连通该第一腔体与该主腔体以允许该第一腔体的气相沉积气体沉积在基板上；该内筒开设有至少一个第三通孔；每个导管连通对应的一个第二通孔与第三通孔，以将该第二腔体连通至该主腔体以允许该溅射靶材通过该至少一个导管溅射基板；该控制装置用于控制基板在同一位置分别进行溅射镀膜及气相沉积镀膜。

2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该外壳具有一个中心轴且包括壳体、位于壳体下方的底盘；该壳体包括一个上端板、一个平行上端板的下端板及多个连接该上端板与该下端板的侧板；该上端板对应侧板的边缘间距均匀地开设有多个贯穿至该侧板的气孔，每个侧板的内壁上开设有所述基板槽，每个基板槽开设有一个连通到该气孔的吸附槽。

3.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，该下端板设置有多个位于同一圆周上的滚轮；底盘面向壳体的端面中央开设有一个对应该多个滚轮的圆形凹槽，圆形凹槽用于容置该多个滚轮在其中转动。

4.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，该底盘面向该壳体的端面中心开设有一个螺孔，该外筒下端板面向该底盘的端面中央设置有一个垂直该外筒下板的连接轴；该连接轴设置在该螺孔中以将该反应装置固定在该底盘上。

5.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该外筒关于一个中心轴对称且包括一个外筒侧板、一个设置于该外筒侧板下方的外筒下板及设置于该外筒侧板上方的外筒上盖；该外筒侧板、该外筒下板及该外筒上盖围成所述第一腔体。

6.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，该外筒侧板包括两个平行该中心轴且相互背对的第一表面、两个平行该中心轴且相互背对的第二表面；该两个第一表面上分别开设所述至少一个第一通孔，该两个第二表面上分别开设有所述至少一个第二通孔。

7.如权利要求6所述的镀膜装置，其特征在于，该外筒侧板还包括两个平行该中心轴且相互背对的第三表面，该两个第三表面上分别开设有一个进气口；该反应装置还包括两个分别设置在该两个第三表面上的放置器，每个放置器包括一个放置槽，且该放置槽通过该进气口连通该第一腔体。

8.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，该控制装置包括输入面板、连接输入面板的输入模块、真空控制模块、供气控制模块、懒性气体控制模块、驱动控制模块及电源控制模块；该真空控制模块、供气控制模块、懒性气体控制模块、驱动控制模块及电源控制模块均连接该输入模块。

9.如权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，该基板槽连接一个真空吸附源，该第一腔体连接一个供气源，该第二腔体连接一个懒性气体源，该第二腔体设置有一个靶材，该靶材连接一个电源的阴极，该基板连接一个电源的阳极；该真空控制模块连接该真空吸附源，该供气控制模块连接该供气源，该懒性气体控制模块连接该懒性气体源，该电源控制模块连接该电源。

10.如权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，该镀膜装置还包括一个连接该外壳的上端板的驱动装置，该驱动装置用于驱动该外壳绕该中心轴的旋转；该驱动装置连接该驱动控制模。

11.如权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，该反应装置还包括四个挡板装置，其中两个该挡板装置可活动地遮盖该至少一个第一通孔，另两个挡板装置可活动地遮盖该至少一个第二通孔。

12.如权利要求11所述的镀膜装置，其特征在于，每个挡板装置包括一个马达、一个架体及一个方形的挡板；该马达包括包括一个马达本体及一个开设有螺纹的转轴；该架体大致呈“V”形，其一端固定在外筒外侧中间部位，另一端连接该马达本体；该挡板包括一个板体及一个设置于板体中间的固定栓，该固定栓上开设有对应该转轴的螺孔；该转轴螺入该螺孔中以将该档板固定在该架体上。