[发明专利]壳体的制作方法及由该方法制得的壳体无效
| 申请号： | 200910306292.0 | 申请日： | 2009-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN102006753A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 朱永刚;丁大伟;关辛午;林兆焄 | 申请（专利权）人： | 深圳富泰宏精密工业有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/04 | 分类号： | H05K5/04;C23F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 制作方法 法制 | ||
【权利要求书】：
1.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一金属基体；
在该金属基体的部分区域蚀刻凹槽；
在所述基体及其凹槽的表面覆盖一金属层；
去除所述形成于基体表面的金属层。
2.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述金属基体的材质为不锈钢、铝、铝合金、锌、锌合金、钛或钛合金。
3.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述蚀刻凹槽的方法为化学蚀刻。
4.如权利要求3所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述凹槽的深度在0.1-0.12mm之间。
5.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述金属层的材质为铝、铝合金、钼、铜、铜合金、锌、锌合金或不锈钢。
6.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述金属层的厚度在0.1-0.2mm之间。
7.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：去除所述形成于基体表面的金属层的方法是机械抛光。
8.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：在所述基体及其凹槽的表面覆盖金属层前还包括对所述凹槽进行粗化处理的步骤。
9.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述粗化处理为对凹槽进行喷砂处理。
10.一种由权利要求1-9的任一项所述的方法制得的壳体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳富泰宏精密工业有限公司，未经深圳富泰宏精密工业有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910306292.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于配制镀锌光亮剂的合成主光亮剂
- 下一篇：数据存储器固定装置
