[发明专利]一种薄膜制备装置无效
| 申请号: | 200910300041.1 | 申请日: | 2009-01-05 |
| 公开(公告)号: | CN101768730A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
| 发明(设计)人: | 裴绍凯 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518109广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 薄膜 制备 装置 | ||
1.一种薄膜制备装置,包括前驱体溶液制备装置和薄膜沉积装置,所述前驱体 溶液制备装置用于制备前驱体溶液,所述薄膜沉积装置用于将前驱体溶液导至 待镀膜的基板表面以形成薄膜,其特征在于,所述前驱体溶液制备装置包括储 液罐、汽化装置和吸收塔,所述储液罐和所述汽化装置均与所述吸收塔相连通, 所述储液罐用于储存镀膜溶液并向吸收塔提供镀膜溶液,所述汽化装置用于汽 化掺杂剂溶液并向吸收塔提供汽化后的掺杂剂溶液,所述吸收塔为板式吸收塔、 填料塔或湍球塔,当所述吸收塔为板式吸收塔时,板式吸收塔的塔板为筛孔塔 板、浮阀塔板或泡罩塔板,所述吸收塔用于使镀膜溶液吸收汽化后的掺杂剂溶 液从而得到前驱体溶液。
2.如权利要求1所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述汽化装置包括容置腔 和加热部,所述容置腔与吸收塔相连通,用于容置掺杂剂溶液,所述加热部用 于对容置腔提供热量以使容置腔内的掺杂剂溶液汽化。
3.如权利要求2所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述容置腔上方具有载气 入口,用于往容置腔内充入载气以使载气带动汽化后的掺杂剂溶液进入吸收塔。
4.如权利要求1所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述板式吸收塔具有顶部、 与顶部相对的底部以及位于顶部和底部之间的多块塔板,所述多块塔板用于均 匀混合镀膜溶液和汽化后的掺杂剂溶液。
5.如权利要求4所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述板式吸收塔具有进气 口、进液口和出液口,所述板式吸收塔通过所述进气口与所述汽化装置相连通, 以使汽化后的掺杂剂溶液进入板式吸收塔,所述板式吸收塔通过所述进液口与 所述储液罐连通,以使镀膜溶液进入吸收塔,所述出液口与所述薄膜沉积装置 相连通,用于向薄膜沉积装置输出前驱体溶液。
6.如权利要求5所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述进气口和出液口开设 于板式吸收塔的底部,所述进液口开设于吸收塔的顶部。
7.如权利要求1所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述前驱体溶液制备装置 还包括套设于吸收塔外部的微波加热器,用于对该吸收塔加热以利于前驱体溶 液进入薄膜沉积装置成膜。
8.如权利要求1所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述薄膜沉积装置包括相 对设置的加热台和喷头,所述加热台用于承载并加热待镀膜的基板,所述喷头 与吸收塔相连通,用于喷出前驱体溶液以在待镀膜的基板表面形成薄膜。
9.如权利要求8所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述喷头与旋转汽缸相连 接,所述旋转汽缸用于带动喷头旋转。
10.如权利要求8所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述薄膜沉积装置还包括 一个超声波雾化装置,所述超声波雾化装置连接于吸收塔与喷头之间,用于雾 化前驱体溶液。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





