[发明专利]记录/再现设备以及记录/再现系统无效

专利信息
申请号: 200910260843.4 申请日: 2009-12-21
公开(公告)号: CN101763860A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 本乡一泰;渡边哲 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B5/02 分类号: G11B5/02;G11B21/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 记录 再现 设备 以及 系统
【说明书】:

技术领域

本发明涉及记录/再现设备和记录/再现系统,更具体地,本发明涉及采 用近场光的记录/再现设备和记录/再现系统。

背景技术

近年来,已经提出了近场光用作记录光在信息记录介质上高密度地记录 信息的技术。在采用近场光的情况下,能够形成超过光衍射极限的微小光斑。 例如,采用近场光的热辅助磁记录技术因有望成为下一代高密度磁记录技术 而受到关注。已经提出了近场光在采用磁光记录膜或者相变记录膜的信息记 录介质中的各种应用。

产生近场光的一种方法利用表面等离子体振子谐振现象,该现象在导体 用光照射时产生。在该方法中,例如,当形状为矩形平行六面体且形成在透 明基板上的导体用光照射时(照射光的偏振方向与导体的纵向方向一致), 照射光的电场引起导体中电荷的偏振。偏振电荷的振动称为“表面等离子体 振子”。当表面等离子体振子的谐振波长与照射光的波长彼此匹配时,产生 所谓“表面等离子体振子谐振”的谐振。在此情况下,导体在其纵向方向上 形成强偏振的电偶极子。当导体形成电偶极子时,在导体的两个纵向端部附 近产生大的电磁场,这会产生近场光。

在现有技术(例如,见日本未审查专利申请公开No.2007-334989 (JP-A-2007-334989))中,提出了利用上面讨论的导体表面等离子体振子谐 振现象产生近场光以采用近场光记录伺服信号的技术。图24示出了在导体 周围的JP-A-2007-334989中提出的浮置头的局部构造。在根据 JP-A-2007-334989的浮置头100中,产生磁场的导电层102提供在相对于磁 盘的表面101中,并且导电层102在沿着电流施加方向的部分上减少宽度以 形成成对的狭窄部分103。

根据JP-A-2007-334989,该对狭窄部分103用光照射,并且将电流施加 到导电层102,从而产生磁场。这使狭窄部分103产生近场光,从而通过磁 场和近场光将成对的伺服信号记录在该对狭窄部分103。如上所述,在 JP-A-2007-334989中披露的技术中,为了实现高轨道节距,采用狭窄的轨道 宽度记录成对的伺服信号。

发明内容

为了在通过近场光的光学记录方案或者利用近场光的热辅助磁记录方 案中以更高的密度记录信息,必须在记录介质的线方向(轨道方向)和垂直 于线方向的方向(轨道节距方向)上获得高密度记录。

在信息通过光直接记录在记录介质上的情况下,通常,要形成的记录标 记与光的斑点形状相比在线方向上缩小,因此,增加线方向上的记录密度是 相对容易的。在热辅助磁记录方案中,除了减少近场光的斑点尺寸外,通过 利用诸如提高要施加的磁场分辨率的技术,并且采用脉冲光以重叠凹坑的写 入方案,能在线方向上增加记录密度。

关于轨道节距方向,相反,存在所谓“交叉擦除(cross erasing)”的问 题,其中对于上面讨论的光学记录方案和热辅助磁记录方案,在记录轨道中 记录信息时,相邻记录轨道也被加热从而擦除已经记录在相邻轨道中的记录 标记。因此,为了通过解决问题而在轨道节距方向上增加记录密度,必须进 一步使近场光的斑点尺寸变窄,以尽可能小地加热相邻的轨道。

考虑到前述情况,所希望的是提供采用近场光且能在轨道节距方向实现 高密度记录的记录/再现设备和记录/再现系统。

根据本发明的实施例,所提供的记录/再现设备包括:光源;以及近场光 产生部分,其包括以预定的间隙彼此相对设置的两个导体部分,并且当来自 该光源的光照射时在该两个导体部分之间产生近场光。该两个导体部分设置 为使得当采用该近场光在记录介质上记录信息时,从该两个导体部分之一到 该两个导体部分的另一个的方向大体上垂直于该记录介质的线方向(line direction)。这里所称的从该两个导体部分之一到该两个导体部分的另一个的 方向与记录介质的线方向之间的“大体上垂直”关系旨在不仅表示两个方向 彼此严格垂直的情况,还表示因生产变化等所致的两个方向不严格垂直但彼 此基本上垂直的情况。

根据本发明的实施例,所提供的记录/再现系统包括:记录介质;光源; 以及近场光产生部分,其包括以预定的间隙彼此相对设置的两个导体部分, 并且当来自该光源的光照射时在该两个导体部分之间产生近场光。该两个导 体部分设置为使得当采用该近场光在该记录介质上记录信息时,从该两个导 体部分之一到该两个导体部分的另一个的方向大体上垂直于该记录介质的 线方向。

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