[发明专利]转印基板和制造显示设备的方法

权利要求书

1.一种转印基板，包含：

用于热转印的支撑基板；和

设置在支撑基板上的转印层，所述转印层包括主体材料和发光掺杂物材料，所述主体材料和发光掺杂物材料都具有升华温度，升华温度之差被设置在预定范围内。

2.按照权利要求1所述的转印基板，

其中转印层包括用于形成发出绿光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的升华温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的升华温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(1)：

-65(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤89(℃)    (1)。

3.按照权利要求1所述的转印基板，

其中转印层包括用于形成发出绿光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的升华温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的升华温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(2)：

-33(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤56(℃)    (2)。

4.按照权利要求1所述的转印基板，

其中转印层包括用于形成发出绿光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的升华温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的升华温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(3)：

-28(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤56(℃)    (3)。

5.按照权利要求1所述的转印基板，

其中转印层包括用于形成发出红光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的升华温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的升华温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(4)：

-111(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤78(℃)    (4)。

6.按照权利要求1所述的转印基板，

其中转印层包括用于形成发出红光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的升华温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的升华温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(5)：

-95(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤51(℃)    (5)。

7.按照权利要求1所述的转印基板，

其中转印层包括用于形成发出红光的有机发光层的主体材料和发光掺杂物材料的多个成分，

其中主体材料在大气压力下的升华温度(T sub-H(℃))和掺杂物材料在大气压力下的升华温度(T sub-D(℃))满足如下的等式(6)：

-95(℃)≤(T sub-H)-(T sub-D)≤25(℃)    (6)。

8.按照权利要求1-7任意之一所述的转印基板，

其中所述支撑基板包括光热转换层。

9.一种制造显示设备的方法，包括：

制备转印基板，所述转印基板包括用于热转印的支撑基板，和设置在支撑基板上的转印层，所述转印层包括主体材料和发光掺杂物材料，所述主体材料和发光掺杂物材料都具有升华温度，升华温度之差被设置在预定范围内；

把转印基板布置成与设备基板相对，转印层面对设备基板；和

通过加热转印层均匀地升华主体材料和掺杂物材料，通过把包括主体材料和掺杂物材料的转印层热转印到设备基板上来形成发光层。

10.按照权利要求9所述的制造显示设备的方法，

其中支撑基板包括光热转换层，

其中当进行热转印时，用激光束照射光热转换层。