[发明专利]一步法制备高分散性四方块状微细氢氧化镁的工艺无效
| 申请号： | 200910248683.1 | 申请日： | 2009-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101723417A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 刘云义;李雪;范天博;马超;李治涛 | 申请（专利权）人： | 沈阳化工学院 |
| 主分类号： | C01F5/20 | 分类号： | C01F5/20;C09K21/02;C08K3/22 |
| 代理公司： | 沈阳技联专利代理有限公司 21205 | 代理人： | 张志刚 |
| 地址： | 110142 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一步法 制备 分散性 四方 块状 微细 氢氧化镁 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一步法制备高分散性四方块状微细氢氧化镁的工艺，其特征是：该工艺采用氯化镁为原料，配成浓度为1.0～2.0mol/L的氯化镁溶液并进行剧烈搅拌，再将溶液加入到鼓泡式反应器中加热，沉淀剂氨气则以鼓泡形式通入到该反应液中，沉镁反应温度为70℃～90℃，反应时间为2～3h，经反应、陈化及过滤洗涤和干燥处理得到高分散性的微细四方块状六面体结构氢氧化镁粉体，滤液中的铵盐通过蒸氨反应以回收氨气用于前一步的镁沉淀反应。
2.如权利要求1所述的一步法制备高分散性四方块状微细氢氧化镁的工艺，其特征是：制备的氢氧化镁产品颗粒粒度均匀，激光粒度分布仪测试平均颗粒径D50为0.3～1.0μm；XRD测试I001/I101为0.8～1.5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳化工学院，未经沈阳化工学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910248683.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种生产碱式碳酸铅的工艺
- 下一篇：一种低成本六氟磷酸锂的制备方法
