[发明专利]TFT-LCD阵列基板、多层图形尺寸检测方法和设备

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示装置制造领域，尤其涉及一种TFT-LCID阵列基板、多层图形尺寸检测方法和设备。

背景技术

TFT-LCD因其体积小、功耗低和无辐射等特点，占据了当前平板显示器市场的主导地位。TFT-LCD由阵列基板和彩膜基板对盒而成。其中，在阵列基板中相互交叉地配置有定义像素区域的栅线和数据线，在各像素区域中配置有像素电极和薄膜晶体管。通过将驱动信号施加到栅线上，图像数据通过数据线施加到像素电极，并通过像素电极施加电压以控制阵列基板和彩膜基板之间液晶的偏转来控制光线的强弱，配合彩膜基板的功能，在基板上显示出所要表达的图像。

目前，在TFT-LCD生产流程中，都需要对TFT-LCD阵列基板上所形成的各层图形的尺寸进行检测，以保证工艺参数的均匀性和产品参数的稳定性。其检测原理是：通过将显微镜移动到特定的检测区域，对该区域的指定图形进行拍摄，然后运用图像处理程序，对图片中匹配图形的线宽进行检测。总体来说，该检测流程包括：将玻璃搬运到检测基台，玻璃对位，定位检测坐标系，对特定点进行拍照，线宽的灰度判断和测量等等。经过上述这些步骤，才可以测定出阵列基板上图形的尺寸。

发明人在实现本发明的技术方案时发现，现有技术提供的TFT-LCD阵列基板的检测方法，由于检测过程繁琐，每张阵列基板的检测时间从二十分钟到三十分钟不等，在大规模量产中，会造成整个生产时间的延迟，影响生产效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种TFT-LCD阵列基板、多层图形尺寸检测方法和设备，能够提供更为快速和准确的测试结果，提高测试的效率和精确度。

为解决上述技术问题，本发明TFT-LCD阵列基板、多层图形尺寸检测方法和设备采用如下技术方案：

一种TFT-LCD阵列基板，包括：基板以及形成在所述基板上的多层阵列图形，在所述基板上未设置所述多层阵列图形的区域设置有用于分别检测所述多层阵列图形中各阵列图形的尺寸大小的检测标记，所述检测标记包括：与被检测图形同层设置且尺寸相同的检测图案，以及与所述检测图案非同层设置的检测衬底。

所述检测衬底包括：位于所述检测衬底中心区域的透光的检测窗口，以及遮光的窗口边框。

所述检测图案遮光，所述检测衬底反光。

所述检测衬底与除被检测阵列图形以外的阵列图形同层设置。

一种在TFT-LCD阵列基板制备过程中检测阵列图形和光刻胶图形尺寸的方法，包括：

在基板上未设置所述多层图形的区域形成分别检测所述多层图形中各图形的尺寸大小的检测标记，所述检测标记包括：与被检测图形同层设置且尺寸相同的检测图案，以及与所述检测图案非同层设置的检测衬底；

采用直线光在所述基板下方照射所述检测标记；

接收透过所述检测标记的光线；

计算出所述光线的透射率，若所述光线的透射率与标准透射率不符，则判定所检测的图形不合格；若所述光线的透射率与标准透射率相符，则判定所检测的图形合格。

所述检测衬底包括：位于所述检测衬底中心区域的透光的检测窗口，以及遮光的窗口边框。

一种在TFT-LCD阵列基板制备过程中检测阵列图形和光刻胶图形尺寸的方法，包括：

在基板上未设置所述多层图形的区域形成分别检测所述多层图形中各图形的尺寸大小的检测标记，所述检测标记包括：与被检测图形同层设置且尺寸相同的检测图案，以及与所述检测图案非同层设置的检测衬底；

采用直线光在所述基板上方照射所述检测标记；

接收经过所述检测标记反射回的光线；

计算出所述光线的反射率，若所述光线的反射率与标准反射率不符，则判定所检测的图形不合格；若所述光线的反射率与标准反射率相符，则判定所检测的图形合格。

所述检测衬底包括：透光的检测窗口，以及不反射光线的窗口边框；所述检测图案反射光线。

所述检测衬底反射光线，所述检测图案不反射光线。

一种采用上述方法的设备，包括：光发射器和光接收器，其中，在基板上未设置所述多层阵列图形的区域设置有用于分别检测所述多层图形中各图形的尺寸大小的检测标记，所述检测标记包括：与被检测图形同层设置且尺寸相同的检测图案，以及与所述检测图案非同层设置的检测衬底；所述光发射器用于向TFT-LCD阵列基板的检测标记发射光线，所述光接收器用于接收所述光发射器发射的，透过所述检测标记或经过所述检测标记反射回的光线。

还包括：与所述光接收器电性连接的数据处理模块。

所述光发射器为激光发射器。