[发明专利]镀膜玻璃及其制造方法有效
申请号: | 200910238978.0 | 申请日: | 2009-12-31 |
公开(公告)号: | CN101875536A | 公开(公告)日: | 2010-11-03 |
发明(设计)人: | 季亚林;申忠东;吕宜超;刘勇;樊义平 | 申请(专利权)人: | 中航三鑫股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 | 代理人: | 胡吉科 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一种镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基板和多层镀膜,该多层镀膜包括从玻璃基板向外依次设置的第一介电层、第一阻挡吸收层、第一复合介电层、第一金属/合金层、功能层、第二金属/合金层和第二复合介电层,该功能层可用于对红外线区和/或太阳辐射光区进行反射,该第一阻挡吸收层可用于抑制镀膜玻璃的加工缺陷和调节玻璃的反射率。
2.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:该第一介电层由金属或合金的氧化物或氮化物组成,包括掺铝的氮化硅、金红石结构的氧化钛或氧化锌锡,其厚度为6-20纳米。
3.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:该第一阻挡吸收层由金属或合金组成,包括镍、铌、镍铬合金或镍铬钒合金,其厚度为0.2-3纳米。
4.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:该第一复合介电层包括至少两层,由玻璃基板向外,其可分别采用如下材料组合中的一种:氧化钛/氧化锌、氧化钛/氧化锌锡、氮化硅/氧化锌、氮化硅/氧化锌锡、氧化锌锡/氧化锌、氧化钛/氮化硅/氧化锌、氧化钛/氮化硅/氧化锌锡、氮化硅/氧化钛/氧化锌,该第一复合介电层的总厚度为8-30纳米,其中氧化物膜层的厚度大于4纳米。
5.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:该第一金属/合金层由金属或合金构成,包括镍、钛、镍铬合金或钒钛合金,其厚度为0.2-4纳米。
6.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:该功能层由贵金属或其合金构成,包括金、银或金银合金中的一种或几种,其厚度为8-15纳米。
7.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:该第二金属/合金层由金属或合金构成,其包括镍、钛、镍铬合金或钒钛合金中一种或几种,该第二金属/合金层的厚度为0.2-3纳米。
8.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:该第二复合介电层包括至少两层,由玻璃基板向外,其可分别采用如下材料组合中的一种:氧化锌/氮化硅、氧化钛/氧化锌锡、氧化锌锡/氧化钛、氧化锌锡/氮化硅、氧化锡/氮化硅、氧化锌/氧化锌锡、氧化钛/氧化锌锡/氮化硅,该第二复合介电层的总厚度为8-40纳米。
9.如权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:还包括设置在第二复合介电层上的第二阻挡吸收层,该第二阻挡吸收层由金属或合金组成,其包括镍、铌、镍铬合金或镍铬钒合金中一种或几种,其厚度为0.2至2纳米。
10.如权利要求9所述的镀膜玻璃,其特征在于:还包括设置在第二阻挡吸收层上的第三复合介电层,其由玻璃基板向外包括至少一层膜结构,该第三复合介电层可分别采用如下材料组合中的一种:氧化钛、氧化锌锡、氮化硅、氧化锌锡/氧化钛、氮化硅/氧化锌锡、氮化硅/氧化钛、氧化锌锡/氮化硅,其中第三复合介电层总厚度为15-50纳米。
11.一种镀膜玻璃制造方法,包括:
对玻璃基板进行清洗、干燥;
预真空过渡;
于玻璃基板上镀第一介电层;
于第一介电层上镀第一阻挡吸收层;
于第一阻挡吸收层上镀第一复合介电层;
于第一复合介电层上镀第一金属/合金层;
于第一金属/合金层上镀功能层;
于功能层上镀第二金属/合金层;
于第二金属/合金层上镀第二复合介电层;
于第二复合介电层上镀第二阻挡吸收层;
于第二阻挡吸收层上镀第三复合介电层;
预真空过渡;
成品检测。
12.如权利要求11所述的镀膜玻璃制造方法,其特征在于:该玻璃基板可以是建筑级浮法玻璃,可以是普通白玻,也可以是各种着色玻璃或超白玻璃。
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