[发明专利]真空阀

说明书

技术领域

本发明涉及一种配置于处理室和真空泵之间、用于调节处理室的真空压力的真空阀。 

背景技术

例如，在半导体制造装置的CVD装置中，通过对作为真空容器的反应室内的薄片从反应室的入口供给包括构成薄膜材料的元素的材料气体，并且用真空泵自反应室的出口排气，由此进行将反应室内保持在真空状态的工作。材料气体的排气速度例如由蝶式比例阀来控制，但蝶式比例阀不能完全截止配管。因此，和蝶式比例阀串联配置ON-OFF式的真空阀，进行配管内的流体的完全截止。 

图10是专利文献1所记载的真空阀100的剖面图。 

例如，专利文献1所记载的真空阀100，在气缸110内收纳有活塞111，构成驱动部。活塞111经由驱动轴112连接在阀芯113上。阀芯113以与设置在阀室123的内壁的阀座124抵接或分开的方式设于阀壳120的阀室123内。阀芯113为：保持部件114用固定螺栓130固定在波纹管115的下端部115b上，环状密封部件117可弹性变形地安装在波纹管115的下端部115b和保持部件114之间所形成的燕尾槽116内。波纹管115，其上端部115a被夹持在气缸110的气缸接头141和阀壳120之间，下端部115b连接在驱动轴112上，与阀芯113的移动对应地在阀室123内进行伸缩。 

活塞111对波形隔膜118进行保持。波形隔膜118将气缸110的内部空间气密地划分为一次室119A和二次室119B。真空阀100通过 压缩设置于一次室119A的压缩弹簧126将阀芯113按压在阀座124上，从而得到使环状密封部件117与阀座124贴紧的阀关闭力。真空阀100从未图示的操作端口向二次室119B供给操作空气，使活塞111抵抗压缩弹簧126向上方移动，由此使阀芯113自阀座124分离，阀壳120的第一端口121和第二端口122作为流路连接。 

真空阀100为：在被焊接于阀壳120上的连接部128上层叠环状密封部件125、波纹管115的上端部115a和气缸接头141，利用未图示的螺栓将阀壳120和气缸接头141连接在一起。环状密封部件125被压扁在上端部115a和连接部128之间，以防止外部气体侵入阀壳120。 

但是，在CVD装置中使用上述真空阀100时，因作用气体固化而使生成物附着在流路内。担心在反应室，在薄片上形成膜时，生成物有可能作为异物混入膜内而使产品的成品率变差。因此，真空阀100将加热器127卷曲在阀壳120内而使接气部变暖，抑制生成物的产生。 

但是，就真空阀100而言，存在燕尾槽116和环状密封部件117之间的间隙及波纹管115的凹进部分等容易滞留作用气体的部位。在这种情况下，即使利用加热器127加热，生成物也容易附着。因此，真空阀100需要频繁地进行波纹管115的清洗、环状密封部件117的更换、加热器127的更换等维护。 

担心如果在真空阀100的维护时活塞111在气缸110内旋转，则波形隔膜118就被扭而产生褶皱。担心波形隔膜118中含有褶皱时，自该部分破损而产生泄漏。真空阀100在活塞111上以向外突出的方式设置制动销129，向气缸110上形成的窗口110a打开规定的空隙而配置。设有空隙是为了防止在真空阀100的动作中，制动销129与气缸110接触而产生滑动阻力。但是，担心在进行设置了空隙的真空阀100的分解、组装时，活塞111在气缸110内旋转，在波形隔膜118中产生褶皱。于是，在进行真空阀100的分解、组装时，在制动销129和窗口110a之间安装空隙消除部件140，来阻止活塞111的旋转。

专利文献1：(日本)特开2000-163136号公报 

但是，对于真空阀100来说，虽然阻止了活塞111的旋转并防止了波形隔膜118被扭，但其结构比较复杂。即，活塞111的制动结构需要安装在活塞111上的制动销129、和以不阻碍制动销129的上下动的方式在气缸110上形成的窗口110a、分解真空阀100时配置于制动销129和窗口110a之间的空隙消除部件140，部件数量多。并且，真空阀100分解时需要装卸空隙消除部件140，分解作业的工序比较复杂。 

发明内容

本发明是为了解决上述问题点而开发的，目的在于提供活塞的制动结构简单、分解作业容易的真空阀。 

本发明的真空阀具有如下构成。