[发明专利]一种在超声成像空间中定义感兴趣容积的方法及其装置

权利要求书

1.一种在超声成像空间中定义感兴趣容积的方法，其特征在于：包括：

初始框架定义步骤：在超声成像空间中定义感兴趣容积的初始框架；

关键控制点选择步骤：接收关键控制点选择信号，根据所述关键控制点选择信号在所述超声成像空间中的任意位置选择至少一个关键控制点；

感兴趣容积曲面生成步骤：用所述至少一个关键控制点和所述初始框架的至少一个元素生成至少一个感兴趣容积曲面；

感兴趣容积描绘步骤：用所述至少一个感兴趣容积曲面在所述超声成像空间中描绘感兴趣容积。

2.如权利要求1所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：所述关键控制点选择步骤进一步包括：

参考平面选择步骤：接收参考平面选择信号，根据所述参考平面选择信号在所述超声成像空间中选择至少一个参考平面；

代理控制点选择步骤：接收代理控制点选择信号，根据所述代理控制点选择信号在所述参考平面上任意位置选择至少一个代理控制点；

关键控制点更新步骤：由所述关键控制点与所述参考平面的投影关系，按照与所述投影关系反向的投影关系计算所述至少一个代理控制点的反向投影点，用所述反向投影点代替所述关键控制点为新的至少一个关键控制点。

3.如权利要求1所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：在所述感兴趣容积描绘步骤之后进一步包括：

参考平面选择步骤：接收参考平面选择信号，根据所述参考平面选择信号在所述超声成像空间中选择至少一个参考平面；

代理控制点选择步骤：接收代理控制点选择信号，根据所述代理控制点选择信号在所述参考平面上任意位置选择至少一个代理控制点；

关键控制点更新步骤：由所述关键控制点与所述参考平面的投影关系，按照与所述投影关系反向的投影关系计算所述至少一个代理控制点的反向投影点，用所述反向投影点代替所述关键控制点为新的至少一个关键控制点；

用所述新的至少一个关键控制点，根据所述感兴趣容积曲面生成步骤和所述感兴趣容积描述步骤，描绘新的感兴趣容积。

4.如权利要求2或3所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：所述代理控制点选择步骤包括：

计算所述至少一个关键控制点在所述参考平面的投影点；

显示所述投影点；

接收代理控制点选择信号，根据所述代理控制点选择信号移动所述投影点，移动后的投影点为至少一个代理控制点。

5.如权利要求2或3所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：所述代理控制点选择步骤进一步包括：

代理控制点更新步骤：接收代理控制点更新信号，根据所述代理控制点更新信号移动所述代理控制点，移动后的点为新的代理控制点。

6.如权利要求1所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：所述感兴趣容积曲面生成步骤包括：计算所述至少一个关键控制点和所述初始框架上的至少一个元素定义的代数曲面，所述代数曲面为感兴趣容积曲面。

7.如权利要求1所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：所述感兴趣容积曲面生成步骤包括：计算由所述关键控制点、初始框架的特征点和所述关键控制点在所述初始框架上的投影点定义的样条曲面，所述样条曲面为感兴趣容积曲面。

8.如权利要求1所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：所述感兴趣容积曲面生成步骤包括：

投影点计算步骤：计算所述关键控制点沿至少两个方向在所述初始框架上的投影点；

中间结果曲线计算步骤：分别计算每个方向上由所述关键控制点和所述关键控制点沿此方向在初始框架上的投影点定义的曲线，获得至少两条中间结果曲线；

合成曲面计算步骤：用所述至少两条中间结果曲线计算合成曲面，以所述合成曲面为感兴趣容积曲面。

9.如权利要求8所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：所述中间结果曲线计算步骤包括：分别计算每个方向上由所述关键控制点和所述关键控制点沿此方向在所述初始框架上的投影点定义的样条曲线，所述样条曲线为中间结果曲线。

10.如权利要求8所述的定义感兴趣容积的方法，其特征在于：所述中间结果曲线计算步骤包括：分别计算每个方向上以所述关键控制点为顶点，并经过所述关键控制点沿此方向在所述初始框架上的投影点的曲线，所述曲线为中间结果曲线。