[发明专利]制备环烷醇和/或环烷酮的方法无效
| 申请号: | 200910211623.2 | 申请日: | 2009-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN101709021A | 公开(公告)日: | 2010-05-19 |
| 发明(设计)人: | 星野正大;杉田启介;A·科马 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
| 主分类号: | C07C29/50 | 分类号: | C07C29/50;C07C45/33;C07C35/08;C07C49/403;C07C29/48 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 赵苏林;李平英 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制备 环烷 醇和 方法 | ||
1.一种制备环烷醇和/或环烷酮的方法,其包括:
使环烷烃与分子氧在中孔二氧化硅的存在下反应,
(1)该中孔二氧化硅包含至少一种过渡金属;
(2)该中孔二氧化硅具有如下孔分布,即孔径为3-50nm的中孔二氧化硅颗粒的总孔体积与孔径为2-50nm的中孔二氧化硅颗粒的总孔体积之比为50%或更大;和
(3)通过有机硅化合物改性的中孔二氧化硅。
2.根据权利要求1的制备方法,其中中孔二氧化硅是选自SBA-12型、SBA-15型和SBA-16型的至少一种中孔二氧化硅。
3.根据权利要求1或2的制备方法,其中过渡金属是选自钒、铬、锰、铁、钴、钌和钯的至少一种金属。
4.根据权利要求1或2的制备方法,其中,过渡金属是钴。
5.根据权利要求1-4中任一项的制备方法,其中中孔二氧化硅是通过下述步骤获得的中孔二氧化硅:
使用含四烷氧基硅烷、聚烷撑氧、和水的混合物进行水热合成反应,获得中孔二氧化硅,
煅烧该中孔二氧化硅,
使中孔二氧化硅与过渡金属化合物接触,生成含过渡金属的中孔二氧化硅,然后
用有机硅化合物处理所得的中孔二氧化硅。
6.根据权利要求1-5任一项的制备方法,其中有机硅化合物是式(I)的有机硅化合物:
Si(R1)x(R2)4-x (I)
其中R1代表烷氧基、羟基、卤素原子、或三烷基甲硅烷基氨基,R2代表烷氧基、烷基、烯丙基、芳基、或芳烷基,和x代表1-3的整数。
7.根据权利要求1-6任一项的制备方法,其中有机硅化合物是三烷氧基烷基硅烷或四烷氧基硅烷。
8.根据权利要求1-7中任一项的制备方法,其中环烷烃是环己烷。
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