[发明专利]衬底传输设备和用于制造磁记录介质的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种沿着穿过室的传输路径传输衬底的衬底 传输设备以及一种用于制造磁记录介质的方法。

背景技术

日本专利特开No.2008-027572公开了一种盘处理系统。 例如用于磁盘的衬底通过装载区进入该系统并且安装在载体中。载体 中的衬底连续运动通过同一高度上的处理室，然后通过提升机或升降 机运动到另一高度。此后，衬底连续运动通过另一高度上的系统并在 卸载区中输出。

要求进一步提高传输并处理例如用于磁盘的衬底的衬底 处理系统的吞吐量和生产力，由此大量地制造产品，如在日本专利特 开No.2008-027572中所述。这需要缩短各处理室中的处理时间(生产 节拍时间)。

发明内容

本发明的目的是提供一种可以通过缩短处理室中的处理 时间而提高吞吐量和生产力的衬底传输设备。

根据本发明的第一方面，提供一种衬底传输设备，其包括： 通过闸阀相互连接的室；传输机构，其构造成打开闸阀并在室之间沿 着传输路径传输载体；传感器，其构造成在载体到达室中的停止位置 之前检测载体；以及控制器，其构造成基于来自传感器的检测信号而 使闸阀开始关闭。

根据本发明的第二方面，提供一种衬底传输设备，其包括： 通过闸阀相互连接的室；传输机构，其构造成打开闸阀并在室之间沿 着传输路径传输载体；以及控制器，其构造成基于传输机构的操作时 间在载体到达室中的停止位置之前使闸阀开始关闭。

根据本发明的第三方面，提供一种衬底传输设备，其包括： 通过闸阀相互连接的室；传输机构，其构造成打开闸阀并在室之间沿 着传输路径传输载体；以及控制器，其构造成在载体到达室中的停止 位置之前使闸阀开始关闭。

根据本发明，能够通过在载体到达停止位置之前开始关闭 闸阀而缩短处理室中的处理时间，由此提高吞吐量和生产力。

本发明的其它特征将从以下参照附图的示例性实施例的说 明变得清楚。

附图说明

图1是示出根据本发明的优选实施例的、包括串联连接的 多个处理室的直列式真空处理设备的布置示例的视图；

图2A和2B是示出根据本发明的优选实施例的衬底传输 设备的主要部分的示意性布置的视图；

图3是示出从水平方向看到的通过闸阀4b由真空吸引而 相互连接的处理室2a和2b的示意性剖视图；

图4是示出从上方看到的处理室2a的示意性剖视图；

图5是说明根据本发明的优选实施例的控制电路的示例的 框图；

图6A至6C是用于解释传统的载体传输操作的解释性视 图；

图7A至7C是用于解释根据本发明的优选实施例的载体 传输操作的解释性视图；

图8是示出通过根据本发明的实施例的磁记录介质制造设 备和磁记录介质制造方法制造的磁记录介质的示例的示例性纵向剖视 图；

图9是示出根据本发明的实施例的磁记录介质制造设备或 薄膜形成设备的示例的示例性视图；

图10是用于解释磁记录介质制造方法的次序的流程图。

具体实施方式

以下将参照附图详细地说明用于实施本发明的最佳模式。例 如，执行例如用于磁盘的衬底的处理(例如，成膜)的真空处理设备可 适当地应用根据本发明的衬底传输设备。图1示意性地示出作为应用根 据本发明的衬底传输设备的真空处理设备的、包括串联连接的多个处 理室的直列式的真空处理设备的布置。

直列式的真空处理设备包括通过闸阀4a至4d相互连接的 装载锁定室1、处理室2a至2c和装载锁定室3。载体6例如通过设置 在各室中的载体传输机构(未示出)沿着水平方向传输，所述载体6 支撑例如用于磁盘的衬底5。在闸阀打开之后，载体在通过闸阀相互 连接的室之间沿着传输路径传输。虽然图1中的处理室的数量是三个， 但是本发明不受此限制。

从外部传输的衬底5通过衬底装载机构(未示出)转移到 装载锁定室3中的待命的载体6，并且由载体6支撑。支撑衬底5的 载体6按顺序传输到处理室2c、2b和2a，在各处理室中被处理，并 传输到装载锁定室1。此后，衬底5通过衬底卸载机构(未示出)从 载体6移除，在直列式的真空处理设备外部卸载，并输送到下一个处 理。已经移除了衬底的载体6沿着返回路线(未示出)返回到装载锁 定室3，并且准备用于传输下一个衬底。