[发明专利]使用反向成像方法的基于模型的辅助特征放置

权利要求书

1.一种用于标识放置辅助特征的位置的方法，其中使用反向掩膜场来标识所述位置，其中所述反向掩膜场通过迭代式地修改表示目标掩膜布局的灰度图像来确定，以及其中对所述灰度图像的所述迭代式修改使用代价函数的梯度来执行，所述方法包括：

确定用于对所述目标掩膜布局进行采样的空间采样频率，其中按照所述空间采样频率对所述目标掩膜布局进行采样防止了所述代价函数的梯度中的空间走样；

通过按照所述空间采样频率对所述目标掩膜布局进行采样来生成所述灰度图像；

计算所述反向掩膜场，包括迭代式地执行：

使用所述代价函数的梯度来修改所述灰度图像，以及

至少基于所述修改的灰度图像来更新所述代价函数的梯度；

以及

至少基于所述反向掩膜场来标识用于放置辅助特征的位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其中计算所述反向掩膜场包括：在所述代价函数的值基本上达到最小值之前，终止对所述灰度图像的所述迭代式修改。

3.根据权利要求1所述的方法，其中计算所述反向掩膜场包括：在固定的迭代次数之后，终止对所述灰度图像的所述迭代式修改。

4.根据权利要求1所述的方法，其中计算所述反向掩膜场包括：一旦所述灰度图像的对比度超过给定阈值，则终止对所述灰度图像的所述迭代式修改。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述空间采样频率为大于或等于4·((NA·(1+σ))/λ)，其中NA是数值孔径，σ是部分相干因子，λ是波长。

6.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：在所述标识的位置处放置辅助特征，由此改善所述目标掩膜布局的整体工艺窗口。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述代价函数表明所述目标掩膜布局与由所述反向掩膜场形成的虚像之间的差异。

8.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：对所述反向掩膜场应用形态学算子，以滤波出所述反向掩膜场中可能放置辅助特征的位置处的噪声。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述形态学算子是以下之一：h-maxima算子、h-minima算子。

10.一种存储有指令的计算机可读存储介质，当所述指令由计算机执行时，其致使所述计算机执行用于标识放置辅助特征的位置的方法，其中使用反向掩膜场来标识所述位置，其中所述反向掩膜场通过迭代式地修改表示目标掩膜布局的灰度图像来确定，以及其中对所述灰度图像的所述迭代式修改使用代价函数的梯度来执行，所述方法包括：

确定用于对所述目标掩膜布局进行采样的空间采样频率，其中按照所述空间采样频率对所述目标掩膜布局进行采样防止了所述代价函数的梯度中的空间走样；

通过按照所述空间采样频率对所述目标掩膜布局进行采样来生成所述灰度图像；

计算所述反向掩膜场，包括迭代式地执行：

使用所述代价函数的梯度来修改所述灰度图像，以及

至少基于所述修改的灰度图像来更新所述代价函数的梯度；

以及

至少基于所述反向掩膜场来标识用于放置辅助特征的位置。

11.根据权利要求10所述的计算机可读存储介质，其中计算所述反向掩膜场包括：在所述代价函数的值基本上达到最小值之前，终止对所述灰度图像的所述迭代式修改。

12.根据权利要求10所述的计算机可读存储介质，其中计算所述反向掩膜场包括：在固定的迭代次数之后，终止对所述灰度图像的所述迭代式修改。

13.根据权利要求10所述的计算机可读存储介质，其中计算所述反向掩膜场包括：一旦所述灰度图像的对比度超过给定阈值，则终止对所述灰度图像的所述迭代式修改。

14.根据权利要求10所述的计算机可读存储介质，其中所述空间采样频率为大于或等于4·((MA·(1+σ))/λ)，其中NA是数值孔径，σ是部分相干因子，λ是波长。

15.根据权利要求10所述的计算机可读存储介质，进一步包括：在所述标识的位置处放置辅助特征，由此改善所述目标掩膜布局的整体工艺窗口。

16.根据权利要求10所述的计算机可读存储介质，其中所述代价函数表明所述目标掩膜布局与由所述反向掩膜场形成的虚像之间的差异。