[发明专利]使用主分量分析的紧凑ABBE内核生成

权利要求书

1.一种用于确定对光刻工艺的光学系统进行建模的Abbe内核 集合的方法，所述方法包括：

接收用于所述光刻工艺的光学系统的光学参数；

使用所述光学参数以确定用于Abbe源的点扩展函数；

根据所述点扩展函数来确定相关矩阵；

通过使用主分量分析执行所述相关矩阵的特征分解来确定所述 Abbe内核集合；

存储所述Abbe内核集合；

接收掩模布局；

将所述掩模布局分解为狭缝集合；并且

通过以下操作来计算图像强度：

将所述狭缝集合中的每个狭缝与所述Abbe内核集合卷积 以获得图像强度贡献集合；并且

聚合所述图像强度贡献以获得所述图像强度。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

通过比较所述图像强度与阈值来确定边缘分段位置；并且

响应于确定所述边缘分段位置不在预期位置的预期范围内，将 所述边缘分段偏移一定移位量。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：

接收电路设计；并且

使用布线工具对所述电路设计执行布线，其中所述布线工具使 用所述Abbe内核集合以确定特定布线是否将造成制造问题。

4.根据权利要求1所述的方法，还包括：

通过将所述Abbe内核集合与区域集合卷积来确定卷积值集合； 并且

在查找表中存储所述卷积值集合。

5.根据权利要求4所述的方法，还包括：

接收掩模布局；

将所述掩模布局分解为多边形集合；并且

通过以下操作将所述多边形集合中的多边形与所述Abbe内核 集合卷积：

使用所述多边形的拐角以在所述查找表中查找值集合；并 且

组合所述值集合以确定所述多边形与所述Abbe内核集合 的卷积。

6.根据权利要求1所述的方法，其中使用所述光学参数以确定 用于所述Abbe源的所述点扩展函数包括使用同心圆集合将所述光 学系统的光源离散化。

7.一种用于确定对光刻工艺的光学系统进行建模的Abbe内核

集合的设备，所述设备包括：

接收机构，配置成接收用于所述光刻工艺的光学系统的光学参 数：

第一确定机构，配置成使用所述光学参数以确定用于Abbe源的 点扩展函数；

第二确定机构，配置成根据所述点扩展函数来确定相关矩阵；

第三确定机构，配置成通过使用主分量分析执行所述相关矩阵 的特征分解来确定所述Abbe内核集合；

存储机构，配置成存储所述Abbe内核集合；

第二接收机构，配置成接收掩模布局；

分解机构，配置成将所述掩模布局分解为狭缝集合；以及

计算机构，配置成计算图像强度，所述计算机构包括：

用于将所述狭缝集合中的每个狭缝与所述Abbe内核集合 卷积以获得图像强度贡献集合的获得装置；并且

用于聚合所述图像强度贡献以获得所述图像强度的聚合装 置。

8.根据权利要求7所述的设备，还包括：

第四确定机构，配置成通过比较所述图像强度与阈值来确定边 缘分段位置；以及

偏移机构，配置成响应于确定所述边缘分段位置不在预期位置 的预期范围内将所述边缘分段偏移一定移位量。

9.根据权利要求7所述的设备，还包括：

第二接收机构，配置成接收电路设计；以及

布线机构，配置成对所述电路设计进行布线，其中所述布线机 构使用所述Abbe内核集合以确定特定布线是否将造成制造问题。

10.根据权利要求7所述的设备，还包括：

第四确定机构，配置成通过将所述Abbe内核集合与区域集合卷 积来确定卷积值集合；以及

第二存储机构，配置成在查找表中存储所述卷积值集合。