[发明专利]将碳化硅薄层移植到其他衬底上的方法无效
申请号: | 200910196328.4 | 申请日: | 2009-09-24 |
公开(公告)号: | CN102034692A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 陈炯 | 申请(专利权)人: | 上海凯世通半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/20 | 分类号: | H01L21/20;H01L21/265;H01L21/301 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 徐茂泰;张妍 |
地址: | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 碳化硅 薄层 移植 其他 衬底 方法 | ||
技术领域
本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种将碳化硅薄层移植到其他衬底上的方法。
背景技术
节能灯的节能效果相对于普通荧光灯有了大幅度的提升,也是目前技术最成熟、最具有大规模推广价值的照明产品。但新兴的LED(Light EmittingDiode发光二极管)照明产业更被认为是当前能源短缺和环境压力下,照明行业惟一可持续性发展的新一代绿色光源,是未来照明行业的发展方向。在同样亮度下,LED照明耗电仅为普通白炽灯的1/10,使用寿命是白炽灯的80-100倍。在全球能源危机、环保要求不断提高的情况下,寿命长、节能、安全、绿色环保、色彩丰富、微型化的半导体LED照明已被世界公认为是继火、白炽灯之后人类照明史上第三次照明革命。
但是由于LED技术不成熟,加上高昂的造价,使得高功率LED迟迟没法替代现有白炽灯和荧光灯,其中,衬底的选择与造价是最主要原因之一。
衬底材料是半导体照明产业技术发展的基石。不同的衬底材料,需要不同的外延生长技术、芯片加工技术和器件封装技术,衬底材料决定了半导体照明技术的发展路线。衬底材料的选择主要取决于以下九个方面:
1、结构特性好,外延材料与衬底的晶体结构相同或相近、晶格常数失配度小、结晶性能好、缺陷密度小;
2、界面特性好,有利于外延材料成核且黏附性强;
3、化学稳定性好,在外延生长的温度和气氛中不容易分解和腐蚀;
4、热学性能好,包括导热性好和热失配度小;
5、导电性好,能制成垂直结构;
6、光学性能好,制作的器件所发出的光被衬底吸收小;
7、机械性能好,器件容易加工,包括减薄、抛光和切割等;
8、价格低廉;
9、大尺寸,一般要求直径不小于2英寸。
常用的衬底有以下三种:
1、蓝宝石(Al2O3),蓝宝石衬底有许多的优点:首先,蓝宝石衬底的生产技术成熟、器件质量较好;其次,蓝宝石的稳定性很好,能够运用在高温生长过程中;最后,蓝宝石的机械强度高,易于处理和清洗。因此,大多数工艺一般都以蓝宝石作为衬底。
使用蓝宝石作为衬底也存在一些问题,例如晶格失配和热应力失配,这会在外延层中产生大量缺陷,同时给后续的器件加工工艺造成困难。
蓝宝石是一种绝缘体,常温下的电阻率大于1011Ω·cm,在这种情况下无法制作垂直结构的器件,通常只在外延层上表面制作n型和p型电极(如图1所示)。在上表面制作两个电极,造成了有效发光面积减少,同时增加了器件制造中的光刻和刻蚀工艺过程,结果使材料利用率降低、成本增加。由于P型GaN掺杂困难,当前普遍采用在p型GaN上制备金属透明电极的方法,使电流扩散,以达到均匀发光的目的。但是金属透明电极一般要吸收约30%~40%的光,同时GaN基材料的化学性能稳定、机械强度较高,不容易对其进行刻蚀,因此在刻蚀过程中需要较好的设备,这将会增加生产成本。
蓝宝石的硬度非常高,在自然材料中其硬度仅次于金刚石,但是在LED器件的制作过程中却需要对它进行减薄和切割(从400nm减到100nm左右),添置完成减薄和切割工艺的设备又要增加一笔较大的投资。
蓝宝石的导热性能不是很好(在100℃约为25W/(m·K))。因此在使用LED器件时,难以传导出大量的热量;特别是对面积较大的大功率器件,导热性能是一个非常重要的考虑因素,但差导热性使大功率的LED没法在这一衬底上有实用性的价值。
2、硅衬底(Si)是一大家向往的材料,具有许多优点,如晶体质量高,尺寸大,易加工,具有良好的导电性、导热性和热稳定性等,但最吸引人的特点是,价钱几乎是碳化硅的百分之一。但其致命缺陷是晶格匹配(跟发光材料、GaAs、GaN...)程度不够好,存在巨大的晶格失配和热失配,而且在GaN的生长过程中容易形成非晶氮化硅,所以在Si衬底上很难得到无龟裂及器件级质量的GaN材料。另外,由于硅衬底对光的吸收严重,LED出光效率低。所以没法生产出高质量的LED,因为发光材料在硅上直接生长的过程会形成较多的缺陷。所以至今我们还没有看到大功率密度的发光材料从硅片上生产出来。
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