[发明专利]一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置无效

专利信息
申请号: 200910190231.2 申请日: 2009-09-19
公开(公告)号: CN101672282A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 孙尚传;童恩东 申请(专利权)人: 大富(深圳)科技有限公司;配天(安徽)机电技术有限公司
主分类号: F04C29/00 分类号: F04C29/00
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所 代理人: 王永文
地址: 518108广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 防止 涡旋 自转 滚珠 体式 装置
【权利要求书】:

1、一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置,用于装配在涡旋压缩机的前盖与动涡旋盘之间;其特征在于,所述的滚珠体式装置包括一静止环、一公转环、和位于所述静止环与公转环之间的多个滚珠体;所述静止环设置在所述前盖上,在接触所述滚珠体的静止环表面上设置有平底的上凹槽;所述公转环设置在所述动涡旋盘上,在接触所述滚珠体的公转环表面上设置有平底的下凹槽;所述上凹槽和下凹槽用于夹持所述滚珠体活动,以消除所述动涡旋盘围绕静涡旋盘回转时产生的自转。

2、根据权利要求1所述的滚珠体式装置,其特征在于,所述滚珠体在所述上凹槽内的活动距离,以及所述滚珠体在所述下凹槽内的活动距离,均超过所述动涡旋盘的回转直径。

3、根据权利要求1所述的滚珠体式装置,其特征在于,所述上凹槽和下凹槽的形状设置为圆形。

4、根据权利要求1所述的滚珠体式装置,其特征在于,所述上凹槽在所述静止环上均匀等间隔设置,所述下凹槽在所述公转环上均匀等间隔设置;所述上凹槽的数量等于所述下凹槽的数量。

5、根据权利要求4所述的滚珠体式装置,其特征在于,在每一所述上凹槽和与其对应的下凹槽之间适配一个所述滚珠体。

6、根据权利要求1至5中任一所述的滚珠体式装置,其特征在于,所述上凹槽和下凹槽的内工艺圆角半径均小于等于所述滚珠体的半径设置。

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