[发明专利]擦除热可逆记录介质上的图像的方法有效
| 申请号: | 200910175846.8 | 申请日: | 2009-09-17 |
| 公开(公告)号: | CN101676122A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
| 发明(设计)人: | 浅井敏明;石见知三;川原真哉;堀田吉彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
| 主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;B41M5/46 |
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵蓉民 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 擦除 可逆 记录 介质 图像 方法 | ||
1.一种擦除图像的方法,包括:
用波长为700nm至1,500nm的激光照射在热可逆记录介质上形成的 图像以便擦除所述图像,
其中所述激光的能量密度在能够擦除所述图像的能量密度范围内 并且大于所述能量密度范围的中心值,其中能够擦除所述图像的能量 密度范围是这样的能量密度范围:在该范围下,当在所述热可逆记录 介质的图像形成部分上形成的图像用具有此种能量密度的激光照射 时,所述热可逆记录介质的图像形成部分的色密度值变成所述热可逆 记录介质的背景色密度值的0.02或更小,
其中所述热可逆记录介质包括:
载体;和
在所述载体上的热可逆记录层,并且
其中所述热可逆记录层含有用作给电子成色化合物的无色染料和 用作受电子化合物的可逆显色剂,其中色调通过热而可逆变化,并且 所述热可逆记录层和临近该热可逆记录层的层中的至少一个层含有光 热转换材料,其吸收光并将所述光转化为热。
2.根据权利要求1所述的擦除图像的方法,其中在照射所述图像 中所用的激光源是半导体激光器。
3.根据权利要求1所述的擦除图像的方法,其中所述热可逆记录 介质中的所述光热转换材料是在近红外区中具有吸收峰的材料。
4.根据权利要求1所述的擦除图像的方法,其中所述热可逆记录 介质用所述激光照射,以便在其上形成图像,并且在光强度分布中, 中心部分的光强度I1与所述激光总照射能量的80%平面处的光强度I2满足关系式0.40≤I1/I2≤2.00。
5.根据权利要求1所述的擦除图像的方法,其中,在所述热可逆 记录介质被移动的同时,在所述热可逆记录介质上的图像被擦除。
6.根据权利要求1所述的擦除图像的方法,其中,所述图像用具 有6至9的能量密度的激光擦除,条件是能够擦除所述图像的最小能 量密度值是0,以及能够擦除所述图像的最大能量密度值是10。
7.根据权利要求1所述的擦除图像的方法,其中,在照射所述图 像时应用的激光的输出功率是5W至200W。
8.根据权利要求1所述的擦除图像的方法,其中,在照射所述图 像时应用的激光的扫描速度是100mm/s至20,000mm/s。
9.根据权利要求1所述的擦除图像的方法,其中,在照射所述图 像时应用的激光的光点直径是0.5mm至14mm。
10.图像擦除装置,包括:
激光发射单元,其被配置为向热可逆记录层发射激光;和
光扫描单元,其设置在从所述激光发射单元发射的激光路径上以 便改变所述路径,并且被配置为用所述激光扫描所述热可逆记录层,
其中所述图像擦除装置被用于擦除图像的方法中,所述擦除图像 的方法包括:
用波长为700nm至1,500nm的激光照射在热可逆记录介质上形成的 图像以便擦除所述图像,
其中所述激光的能量密度在能够擦除所述图像的能量密度范围内 并且大于所述能量密度范围的中心值,其中能够擦除所述图像的能量 密度范围是这样的能量密度范围:在该范围下,当在所述热可逆记录 介质的图像形成部分上形成的图像用具有此种能量密度的激光照射 时,所述热可逆记录介质的图像形成部分的色密度值变成所述热可逆 记录介质的背景色密度值的0.02或更小,
其中所述热可逆记录介质包括:
载体;和
在所述载体上的热可逆记录层,并且
其中所述热可逆记录层含有用作给电子成色化合物的无色染料和 用作受电子化合物的可逆显色剂,其中色调通过热而可逆变化,并且 所述热可逆记录层和临近该热可逆记录层的层中的至少一个层含有光 热转换材料,其吸收光并将所述光转化为热。
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