[发明专利]散射线校正方法以及散射线校正装置有效

专利信息
申请号: 200910140047.7 申请日: 2009-07-10
公开(公告)号: CN101810489A 公开(公告)日: 2010-08-25
发明(设计)人: 邹宇;M·D·西尔弗;大石悟;佐藤幸三 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03;G06T5/00;G01T1/161
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 孙蕾
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 散射 校正 方法 以及 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及能够实施CT仿真成像的X射线诊断装置中使用的散 射线校正方法以及散射线校正装置。

背景技术

通常,X射线投影图像中含有很多散射线成分。该散射线在使用 二维检测器的三维成像中,使CT值的准确度大劣化。像X射线诊断 装置中使用的平面检测器那样的二维检测器使用用于抑制散线的散射 线除去栅板。但是,其效果与X射线计算机断层摄影装置中的散射线 除去比较相差悬殊。另外,利用使用二维检测器的三维成像,特别是 抽出像软组织那样的对比度低的信息时,散射线校正是不可欠缺的。

散射线由通过被检体的1次X射线近似性地模式化。但是,实际 上我们可以实测的是像下面公式(1)中那样的1次X射线P(x,y)与散 射线S(x,y)的合成图像P’(x,y)

P’(x,y)=P(x,y)+S(x,y)    (1)

而且散射线S(x,y)可以像以下公式(2)那样模式化。

S(x,y)={-P(x,y)logP(x,y)}*[Aexp{-(x2+y2)/(2a2)}+ Bexp{-(x2+y2)/(2b2)}]   (2)

在这里,记号*为重叠运算符、系数A项为瑞利散射(Rayleigh 散射)模式化、系数B项是卡姆普顿散射(Compton散射)模式化。 基于公式(1)和公式(2),散射线校正从合成图像P’(x,y)中导出1次 X射线P(x,y)的问题。

但是,不能解析地计算出公式(1)、(2)就不能直接计算出P(x,y)。 因此,采用以前的技术,根据近似法逐次计算出将式(3)作为最小一样 的Pg(x,y)。

E=|P’(x,y)-Pg’(x,y)|2    (3)

在这里Pg’(x,y)为基于推测的1次X射线图像Pg(x,y)计算出的合 成图像,可以象下面公式(4)那样表示。

Pg’(x,y)=Pg(x,y)+Sg(x,y)   (4)

另外,在这里,Sg(x,y)可以像以下记述

Sg(x,y)={-Pg(x,y)logPg(x,y)}*[Aexp{-(x2+y2)/(2a2)}+ Bexp{-(x2+y2)/(2b2)}]   (5)

但是,以前的散射线按照每个投影方向使用上述公式(3)进行逐次 近似计算是很有必要的。因此计算处理需要花费很多时间。

发明内容

本发明鉴于上述事情而完成的,其目的在于:在CT仿真成像中, 提供与相比以前可以高速执行散射线校正的散射线校正方法以及散射 线校正装置。

根据本发明的技术方案提供一种散射线校正方法,其特征在于, 包括:

从通过CT仿真成像收集到的多个投影图像中除去散射线的散射 线校正方法,在从任意投影方向的投影图像中鉴别散射线图像情况下, 将已鉴别的邻接的投影方向的散射线图像作为散射线图像的初始推定 图像。

根据本发明的另外的技术方案提供一种散射线校正方法,其特征 在于,包括:

从通过CT仿真成像收集到的多个投影图像中除去散射线的散射 线校正方法,推定在邻接的从第i投影方向到第j投影方向上共用的 散射线图像。

根据本发明的另外的技术方案提供一种散射线校正方法,其特征 在于,包括:

生成X射线收集图像的缩小图像并基于缩小图像鉴别第1散射线 图像,扩大上述第1散射线图像生成第2散射线图像,从上述X射线 收集图像中除去第2散射线图象进行散射线校正。

根据本发明的另外的技术方案提供一种散射线校正方法,其特征 在于,包括:

从通过CT仿真成像收集到的多个投影图像中除去散射线的散射 线校正方法,生成在邻接的从第i投影方向到第j投影方向上共用的 缩小图像并基于缩小图像鉴别第1散射线,扩大上述第1散射线图像 生成第2散射线图像,通过从上述各收集图像中除去对应的第2散射 线图像,以进行散射线校正。

根据本发明的另外的技术方案提供一种散射线校正方法,其特征 在于,包括:

从通过CT仿真成像收集到的多个投影图像中除去散射线的散射 线校正方法,为了从任意投影方向的投影图像中并基于缩小图像鉴别 散射线图像,首先将鉴别的邻接方向的缩小散射线图像作为该方向的 缩小散射线图像的初始推定图像。

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