[发明专利]可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法

说明书

技术领域

本发明是有关于一种可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，尤指一种以涂布方式成型，使可挠性高分子基材具有高电阻抗、高光泽性、低金属屏蔽效应或光遮蔽性，并令所需范围内的光、电磁波等的穿透性佳，以避免传输与接收的品质受到干扰的特性。

背景技术

目前应用于手机、蓝牙耳机及GPS等电子产品，使所述这些产品的塑胶外壳产生金属质感，且又具有静电屏蔽的效果的结构，是采用真空金属化工艺，即所谓的NCVM(Non-Conductive Vacuum Metallization)。NCVM是“非导电真空电镀”的简称，属于“不连续性”非导电真空电镀工艺。现有的NCVM乃利用真空蒸着一金属膜层覆于塑胶基材，并结合不导电物质为介面层而形成，其制造方式是使用蒸着与漆料涂布等技术，因此产生的制品具不导电性及市场需求的光泽外观。若金属膜层具导电性，则会对电波的传输或接收造成干扰，当然亦无法同步产生具高电阻抗性及满足市场需求的光泽外观。所述真空蒸着技术最大的缺点是大面积时镀层厚度的均匀性不易控制，因此无法满足卷对卷(roll to roll)的加工方式。

另一真空金属化工艺(溅射)亦可制作出具不导电性及市场需求的光泽外观的塑胶外壳，但此种以溅射技术制作的方式，其缺点为设备成本昂贵。

发明内容

本发明的主要目的，是提供一种可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其是以涂布方式形成可挠性高分子基材上的高金属光泽高阻抗膜层，以使可挠性高分子基材具有高电阻抗、高光泽性、低金属屏蔽效应或光遮蔽性，并令所需范围内的光、电磁波等的穿透性佳，以避免传输与接收的品质受到干扰的特性，并可于大气环境下以滚轮涂布作大尺寸、高速的涂布(卷对卷，roll to roll)，而具有量产的经济价值。

为达上述目的，本发明乃提供一种可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其是利用湿式涂布的方式而在一可挠性高分子基材的第一表面上涂布一光泽层，并在光泽层上或可挠性高分子基材的第二表面上进一步涂布一颜色保护层。

附图说明

图1：是本发明的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法的其一较佳实施例图；

图2：是本发明的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法的其二较佳实施例图。

附图标号：

(1)可挠性高分子基材

(2)光泽层

(3)颜色保护层

具体实施方式

为令本发明的技术于段、发明目的及达成功效有更完整及清楚的揭露，兹于下详细说明之，并请一并参阅揭示的附图及元件符号。

请参阅图1，是本发明的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法的其一较佳实施例图。其制造流程为：

步骤一：是先取一预设尺寸的可挠性高分子基材(1)；

步骤二：于可挠性高分子基材(1)的任意一表面上涂布一层金属光泽层涂料，之后置入烘箱内烘烤，待涂布面硬化，即在可挠性高分子基材(1)上形成光泽层(2)；

步骤三：于可挠性高分子基材(1)未涂布形成光泽层(2)的表面上，涂布颜色保护层涂料，再将之置入烘箱内烘烤使之硬化，并因此形成颜色保护层(3)。

请再参阅图2，是本发明的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法的其二较佳实施例图。其制造流程为：

步骤一：是先取一预设尺寸的可挠性高分子基材(1)；

步骤二：于可挠性高分子基材(1)的任意一表面上涂布一层金属光泽层涂料，之后置入烘箱内烘烤，待涂布面硬化，即在可挠性高分子基材(1)上形成光泽层(2)；

步骤三：于光泽层(2)上涂布颜色保护层涂料，再将之置入烘箱内烘烤使之硬化，并因此形成颜色保护层(3)。

所述金属光泽层涂料的成分包括有金属及溶剂；所述溶剂的组成为MEK(Methyl Ethyl Ketone，丁酮)、分散剂及热固型硬化树脂。其中，上述的金属是选自锡、铟、铝、银、铜、铬中的至少一种或二种以上金属或其化合物质组成者；上述的金属光泽层涂料中的金属的固含量为1-5wt％，以1wt％为最佳；树脂的固含量为15-20wt％，以19wt％为最佳；分散剂的酸基值为10-20mgKOH/g，以10mgKOH/g为最佳，重量百分比为10-15wt％，以10wt％为最佳。

所述颜色保护层涂料是以MEK(Methyl Ethyl Ketone，丁酮)及高分子材料、漆料或硬化树脂，添加色料或消光粉所形成。其中，上述的色料的固含量为10-15wt％，最佳使用固含量为10wt％；树脂的固含量为40-60wt％，以40wt％为最佳。