[发明专利]可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法

权利要求书

1.一种可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述制造方法为：

步骤一：是先取一预设尺寸的可挠性高分子基材；

步骤二：于可挠性高分子基材的任意一表面上涂布一层金属光泽层涂料以形成光泽层；

步骤三：于可挠性高分子基材未涂布形成光泽层的表面上，涂布颜色保护层涂料以形成颜色保护层。

2.如权利要求1所述的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述金属光泽层涂料的成分包括有金属及溶剂；所述溶剂的组成为MEK、分散剂及热固型硬化树脂；其中，所述金属的固含量为1-5wt％，以1wt％为最佳；树脂的固含量为15-20wt％，以19wt％为最佳；分散剂的酸基值为10-20mgKOH/g，以10mgKOH/g为最佳，重量百分比为10-15wt％，以10wt％为最佳。

3.如权利要求2所述的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述金属光泽层涂料中的金属是选自锡、铟、铝、银、铜、铬中的其中一种或二种以上金属或其化合物质组成。

4.如权利要求1所述的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述颜色保护层涂料是以MEK及高分子材料、漆料或硬化树脂，添加色料或消光粉所形成；其中，所述色料的固含量为10-15wt％，最佳使用同含量为10wt％；树脂的固含量为40-60wt％，以40wt％为最佳。

5.一种可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述制造方法为：

步骤一：是先取一预设尺寸的可挠性高分子基材；

步骤二：于可挠性高分子基材的任意一表面上涂布一层金属光泽层涂料以形成光泽层；

步骤三：于光泽层上涂布颜色保护层涂料以形成颜色保护层。

6.如权利要求5所述的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述金属光泽层涂料的成分包括有金属及溶剂；所述溶剂的组成为MEK、分散剂及热固型硬化树脂；其中，所述金属的固含量为1-5wt％，以1wt％为最佳；树脂的固含量为15-20wt％，以19wt％为最佳；分散剂的酸基值为10-20mgKOH/g，以10mgKOH/g为最佳，重量百分比为10-15wt％，以10wt％为最佳。

7.如权利要求6所述的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述金属光泽层涂料中的金属是选自锡、铟、铝、银、铜、铬中的其中一种或二种以上金属或其化合物质组成。

8.如权利要求5所述的可挠性高分子基材上具高金属光泽高阻抗的制造方法，其特征在于，所述颜色保护层涂料是以MEK及高分子材料、漆料或硬化树脂，添加色料或消光粉所形成；其中，所述色料的固含量为10-15wt％，最佳使用固含量为10wt％；树脂的固含量为40-60wt％，以40wt％为最佳。