[发明专利]具有防刮痕的附膜无效
| 申请号: | 200910135607.X | 申请日: | 2009-04-22 |
| 公开(公告)号: | CN101870190A | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
| 发明(设计)人: | 杨世安 | 申请(专利权)人: | 杨子德 |
| 主分类号: | B32B33/00 | 分类号: | B32B33/00;B05D3/06;B44C5/04;B44C1/17 |
| 代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所 11301 | 代理人: | 吴怀权 |
| 地址: | 中国台湾台北县新庄市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 刮痕 | ||
1.一种具有防刮痕的附膜,其特征在于:所述附膜至少包含有一个基材层,所述基材层上设有一个经UV紫外线照射涂布的树脂硬化制得的防刮硬化层,且所述附膜的硬化系数达5H以上。
2.一种具有防刮痕的附膜,其特征在于:所述附膜至少包含有基材层、离型剂层、上色层、保护层、电镀铝层及底胶层,且所述附膜与所述离型剂层与上色层之间夹设有一个经UV紫外线照射涂布的树脂硬化制得的防刮硬化层,且所述附膜的硬化系数达5H以上。
3.如权利要求1或2所述的具有防刮痕的附膜,其特征在于:所述防刮硬化层其所照射UV紫外线光的波长范围为15nm~500nm。
4.如权利要求1或2所述的具有防刮痕的附膜,其特征在于:所述树脂包含有含氟素单体、紫外光硬化型PU树脂、光起始剂及紫外光反应型稀释剂。
5.如权利要求1或2所述的具有防刮痕的附膜,其特征在于:所述防刮硬化层为经强度60w/cm2~120w/cm2的紫外线光照射过的硬化层。
6.如权利要求1或2所述的具有防刮痕的附膜,其特征在于:所述防刮硬化层为经UV紫外线光照射0.1~10秒的硬化层。
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