[发明专利]液晶显示装置用玻璃基板的清洗及蚀刻组成物以及利用它的玻璃基板的蚀刻方法

说明书

技术领域

本发明涉及可以同时清洗及蚀刻液晶显示装置用玻璃基板的组成物，具体地涉及包 含氟化物盐、无机酸、表面活性剂及水的蚀刻液组成物。

背景技术

液晶显示装置(liquid crystal display device，LCD device)由于提供基于卓 越的分辨率的鲜明的影像、耗电少、可较薄地制作显示画面的特性，在平板显示装置中 最受到关注。

液晶显示装置使用于包括手机、笔记本型PC的移动用设备及电视，随着上述设备 的薄型、轻量的要求，在构成LCD装置的构成因素中减轻重量最大的玻璃基板的重量的 技术变得重要，随之玻璃基板的蚀刻成为重要的问题。

现有的玻璃基板蚀刻方法(韩国专利登记第815856号)是利用强毒性、发烟性的 氢氟酸(HF)的方法，由此生成了氢氟硅酸(H₂SiF₆)。现在，以中国和台湾为首的各国 通过环境规制逐渐禁止氢氟酸的使用。另外，如过去利用氢氟酸蚀刻玻璃基板时，蚀刻 速度过快，或难以维持玻璃基板的膜均匀度、光透射性及色再现性等。

作为氧化剂，也有对使用过硫酸盐的玻璃基板蚀刻液(韩国专利登记第248113号、 第415261号)的研究，但是过硫酸盐的情况下，由于具有自己分解的性质，所以蚀刻 液保管安全性降低，存在需要进行低温保管的问题。

另外，作为粘度调节剂，也有对磷酸、乙二醇、甘醇等的玻璃基板蚀刻液(韩国专 利登记第677052号)的研究，但是粘度调节剂的添加导致蚀刻液的粘度上升，蚀刻大 型玻璃时，存在产生由斑点引起的不良的问题。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种保管安全性优秀的玻璃基板的清洗及蚀刻组成物及蚀 刻方法，为了废水处理及工序上的安全性，不使用氢氟酸，并且容易地调节蚀刻速度， 从而没有不良地调节玻璃厚度，并维持玻璃基板的膜均匀度、光透射性及色再现性。

本发明提供一种蚀刻液组成物，相对于整体蚀刻液组成物重量包含0.1～30重量％ 的氟化物盐、10～60重量％的无机酸、0.001～3重量％的表面活性剂、及使组成物总重 量成为100重量％的量的水。

另外，提供一种在液晶显示装置制造中包括利用上述蚀刻液组成物同时清洗及蚀刻 玻璃基板的步骤的液晶显示装置用玻璃基板蚀刻方法。

若使用根据本发明的一实施例的蚀刻液，则保管安全性优秀，可以同时进行清洗和 蚀刻，容易调节蚀刻速度，可以制造希望厚度的玻璃基板，可以确保玻璃基板的膜均匀 度、光透射性及色再现性。另外，通过不使用氢氟酸，可以确保废水处理及工序上的安 全性。

附图说明

图1是用使用氢氟酸的现有的蚀刻液蚀刻玻璃基板之后由扫描电子显微镜对玻璃 基板的厚度和表面进行测量、拍摄的照片。

图2是本发明人用根据设想的此较例2的蚀刻液蚀刻玻璃基板之后由扫描电子显微 镜对玻璃基板的厚度和表面进行测量、拍摄的照片。

图3是本发明人用根据设想的比较例3的蚀刻液蚀刻玻璃基板之后由扫描电子显微 镜对玻璃基板的厚度和表面进行测量、拍摄的照片。

图4是本发明人用根据设想的比较例4的蚀刻液蚀刻玻璃基板之后由扫描电子显微 镜对玻璃基板的厚度和表面进行测量、拍摄的照片。

图5是本发明人用根据设想的比较例5的蚀刻液蚀刻玻璃基板之后由扫描电子显微 镜对玻璃基板的厚度和表面进行测量、拍摄的照片。

图6是本发明人用根据设想的比较例6的蚀刻液蚀刻玻璃基板之后由扫描电子显微 镜对玻璃基板的厚度和表面进行测量、拍摄的照片。

图7是用根据本发明的实施例1的蚀刻液蚀刻玻璃基板之后由扫描电子显微镜对玻 璃基板的厚度和表面进行测量、拍摄的照片。

图8是用根据本发明的实施例2的蚀刻液蚀刻玻璃基板之后由扫描电子显微镜对玻 璃基板的厚度和表面进行测量、拍摄的照片。

具体实施方式

以下，对本发明进行更详细的说明。