[发明专利]液晶显示装置用玻璃基板的清洗及蚀刻组成物以及利用它的玻璃基板的蚀刻方法

权利要求书

1.一种蚀刻液组成物，其特征在于，相对于整体蚀刻液组成物重量包含0.1～30 重量％的氟化物盐；10～60重量％的硝酸和/或硫酸；0.001～3重量％的表面活性剂； 0.001～5重量％的蚀刻抑制剂；及使组成物总重量成为100重量％的量的水，其中，所 述蚀刻抑制剂是选自由磷酸盐及硼酸盐构成的组中的一个以上，所述磷酸盐为[M]H₂PO₄、 [M]₂HPO₄或(NH₄)₃PO₄，其中，M＝NH₄、K或Na。

2.如权利要求1所述的蚀刻液组成物，其特征在于，上述氟化盐是氟化铵NH₄F、 氟化氢铵NH₄HF₂、氟化钾KF、或氟化锂LiF。

3.如权利要求1所述的蚀刻液组成物，其特征在于，作为上述表面活性剂使用单 独的阴离子表面活性剂、单独的非离子表面活性剂、或阴离子表面活性剂/非离子表面 活性剂的组合，上述阴离子表面活性剂是氟代烷基磺酰胺、氟代烷基磺酸盐、全氟烷基 磺酸盐、氟代烷基磷酸盐、烷基磺酰胺、烷基磺酸盐、或烷基磷酸盐，上述非离子表面 活性剂是氟代氧化乙烯衍生物或聚环氧乙烷衍生物。

4.一种液晶显示装置用玻璃基板蚀刻方法，其特征在于，在液晶显示装置制造中 包括：利用相对于整体蚀刻液组成物重量包含0.1～30重量％的氟化物盐；10～60重量 ％的硝酸和/或硫酸；0.001～3重量％的表面活性剂；0.001～5重量％的蚀刻抑制剂，及 使组成物总重量成为100重量％的量的水的蚀刻液组成物，同时清洗及蚀刻玻璃基板的 步骤，其中，所述蚀刻抑制剂是选自由磷酸盐及硼酸盐构成的组中的一个以上，所述磷 酸盐为[M]H₂PO₄、[M]₂HPO₄或(NH₄)₃PO₄，其中，M＝NH₄、K或Na。