[发明专利]含有氨基苯磺酸的半水性溶脱和清洗组合物

权利要求书

1.一种半水性溶脱和清洗组合物，包含：

a.0.5％重量至10％重量的氨基苯磺酸或其对应的盐，

b.30％重量至90％重量的可与水混溶的有机溶剂，和

c.5％重量至70％重量的水；

其中上述组分的百分比含量的总和小于或等于100％，并且该组 合物的pH值为6-11。

2.如权利要求1所述的组合物，其中所述氨基苯磺酸选自2-氨 基苯磺酸、3-氨基苯磺酸、4-氨基苯磺酸及其混合物。

3.如权利要求2所述的组合物，其中所述氨基苯磺酸为2-氨基 苯磺酸。

4.如权利要求1-3任一项所述的组合物，其中所述可与水混溶的 有机溶剂选自二醇醚、糠醇及其混合物。

5.如权利要求4所述的组合物，其中所述可与水混溶的有机溶 剂选自丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、三(丙二醇)单甲醚、2-(2-丁氧基乙 氧基)乙醇、四氢糠醇及其混合物。

6.如权利要求1-3任一项所述的组合物，其中所述组合物进一步 包含0.5％至15％重量的选自有机酸、有机酸盐、苯酚、三唑、二烷 基羟胺、果糖、亚硫酸铵、2-氨基嘧啶、硫代硫酸铵、甘氨酸、四甲 基胍、亚氨基二乙酸、二甲基乙酰基乙酰胺及其混合物的腐蚀抑制剂。

7.如权利要求6所述的组合物，其中所述二烷基羟胺是二乙基羟 胺。

8.如权利要求1-3任一项所述的组合物，其中所述组合物进一步 包含0.5％重量至10％重量的选自氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、 氢氧化四丁基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化三甲基乙基铵、氢氧化(2- 羟乙基)三甲基铵、氢氧化(2-羟乙基)三乙基铵、氢氧化(2-羟乙基)三 丙基铵、氢氧化(1-羟丙基)三甲基铵、氢氧化乙基三甲基铵、氢氧化 二乙基二甲基铵、氢氧化苯甲基三甲基铵及其混合物的季铵化合物。

9.一种从半导体基板除去光致抗蚀剂、蚀刻和/或灰磨残留物或 者污染物的方法，包括：

使半导体基板与包含以下成分的组合物接触足以充分地除去所 述光致抗蚀剂、蚀刻和/或灰磨残留物或者污染物的一段时间：

a.0.5％重量至10％重量的氨基苯磺酸或其对应的盐，

b.30％重量至90％重量的可与水混溶的有机溶剂，和

c.5％重量至70％重量的水；

其中上述组分的百分比含量的总和小于或等于100％，并且该组 合物的pH值为6-11。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述氨基苯磺酸选自2-氨基 苯磺酸、3-氨基苯磺酸、4-氨基苯磺酸及其混合物。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述氨基苯磺酸为2-氨基 苯磺酸。

12.如权利要求9-11任一项所述的方法，其中所述可与水混溶的 有机溶剂选自二醇醚、糠醇及其混合物。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述可与水混溶的有机溶剂 选自丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、三(丙二醇)单甲醚、2-(2-丁氧基乙氧 基)乙醇、四氢糠醇及其混合物。

14.如权利要求9-11任一项所述的方法，其中所述组合物进一步 包含0.5％重量至15％重量的选自有机酸、有机酸盐、苯酚、三唑、 二烷基羟胺、果糖、亚硫酸铵、2-氨基嘧啶、硫代硫酸铵、甘氨酸、 四甲基胍、亚氨基二乙酸、二甲基乙酰基乙酰胺及其混合物的腐蚀抑 制剂。

15.如权利要求14所述的组合物，其中所述二烷基羟胺是二乙基 羟胺。

16.如权利要求9-11任一项所述的方法，其中所述组合物进一步 包含0.5％重量至10％重量的选自氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、 氢氧化四丁基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化三甲基乙基铵、氢氧化(2- 羟乙基)三甲基铵、氢氧化(2-羟乙基)三乙基铵、氢氧化(2-羟乙基)三 丙基铵、氢氧化(1-羟丙基)三甲基铵、氢氧化乙基三甲基铵、氢氧化 二乙基二甲基铵、氢氧化苯甲基三甲基铵及其混合物的季铵化合物。