[发明专利]感射线性树脂组合物以及层间绝缘膜和微透镜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及感射线性树脂组合物以及层间绝缘膜和微透镜的 制造方法。

背景技术

薄膜晶体管(以下记为“TFT”)型液晶显示元件及磁头元件、 集成电路元件、固态图像传感器等电子产品，通常在层状布置的 布线之间设置绝缘用的层间绝缘膜。由于作为形成层间绝缘膜的 材料，优选为获得必要图案形状所需的工序数少、且具有足够好 的平坦性的材料，因而感射线性树脂组合物被广泛地使用(参见专 利文献1和专利文献2)。

另外，作为传真机、电子复印机、固态图像传感器等晶载滤 色器成像光学系统或者光纤连接器的光学系统材料，使用具有3～ 100μm左右透镜直径的微透镜，或者将这些微透镜按规律排列而 成的微透镜阵列。微透镜或者微透镜阵列的形成，已知在形成相 当于透镜的抗蚀图案后，通过加热处理使其熔体流动后直接作为 透镜使用的方法，或者将熔体流动的透镜图案作为掩模，通过干 法蚀刻向底层转印透镜形状的方法等。在上述透镜图案的形成中， 广泛地使用感射线性树脂组合物(参见专利文献3和专利文献4)。

这些层间绝缘膜和微透镜或微透镜阵列要求有高耐热性、高 耐溶剂性、高透明性、与底层的粘附性等各种性能。并且，近年 来，在TFT液晶显示元件领域，正处于大屏幕化、快速响应化、 薄型化等的趋势下，作为其中所用层间绝缘膜的形成用组合物， 在具有高敏感度、作为形成的层间绝缘膜具有低介电常数方面， 要求比以前有所提高的高性能。并且，在制造层间绝缘膜和微透 镜的过程中，在其显影工序中，如果显影时间哪怕是稍微超过最 佳时间，则图案与基板之间容易渗入显影液而发生脱落，故而必 须严格控制显影时间，因此，需要开发具有足够显影裕度的感射 线性树脂组合物。

【专利文献1】日本特开2001-354822号公报

【专利文献2】日本特开2001-343743号公报

【专利文献3】日本特开平6-18702号公报

【专利文献4】日本特开平6-136239号公报

发明内容

本发明是基于以上情况而作出的。因此，本发明的目的是提 供一种感射线性组合物，其具有高的感射线敏感度和优良的显影 裕度，并且能够容易地形成与底层的粘附性优良的图案状薄膜。

本发明的另一目的是提供一种感射线性树脂组合物，当其用 于形成层间绝缘膜时，能够形成高耐热性、高耐溶剂性、高透光 率、低介电常数的层间绝缘膜，并且当用于形成微透镜时，能够 形成具有高透光率和良好的熔融形状的微透镜。

本发明的又一目的是提供一种用上述感射线性树脂组合物形 成层间绝缘膜和微透镜的方法。

本发明的其它目的和优点可以由以下的说明获悉。

根据本发明，本发明的上述目的和优点，第一，由一种感射 线性树脂组合物达成，其特征在于包括：

[A]含有(a1)由不饱和羧酸和不饱和羧酸酐构成的群组中选出 的至少一种和(a2)由具有环氧乙基的不饱和化合物和具有氧杂环 丁烷基的不饱和化合物构成的群组中选出的至少一种的不饱和混 合物的共聚物(以下也称为“共聚物(A)”)，

[B]1，2-醌二叠氮化合物(以下也称为“[B]成分”)，以及

[C]具有碳原子数为6～15的芳基的倍半硅氧烷(以下也称为 “[C]成分”)。

根据本发明，本发明的上述目的和优点，第二，由一种层间 绝缘膜或微透镜的形成方法达成，其特征在于按照下述顺序包括 以下工序，

(1)在基板上形成上述感射线性树脂组合物涂膜的工序，

(2)对该涂膜的至少一部分照射射线的工序，

(3)将照射后的涂膜进行显影的工序，和

(4)将显影后的涂膜进行加热的工序。

本发明的感射线性树脂组合物，具有高的感射线敏感度和优 良的显影裕度，并且，通过使用该感射线性树脂组合物，能够容 易地形成与底层的粘附性优良的图案状薄膜。

由上述组合物形成的本发明层间绝缘膜，耐溶剂性和耐热性 优良，具有高透光率和低介电常数，可适合作为电子产品的层间 绝缘膜使用。另外，由上述组合物形成的本发明微透镜，耐溶剂 性和耐热性优良，并且具有高透光率和良好的熔融形状，可适合 作为固态图像传感器的微透镜使用。

附图说明