[发明专利]铝合金活塞多层梯度类金刚石纳米复合涂层及其制备方法无效
申请号: | 200910117689.5 | 申请日: | 2009-12-09 |
公开(公告)号: | CN102092166A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 王立平;万善宏;张广安;薛群基 | 申请(专利权)人: | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
主分类号: | B32B33/00 | 分类号: | B32B33/00;B32B9/00;B32B7/02;C23C14/35;C23C8/24;C23C28/00 |
代理公司: | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人: | 方晓佳 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铝合金 活塞 多层 梯度 金刚石 纳米 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种铝合金活塞多层梯度类金刚石纳米复合涂层,其特征在于该涂层依次由活塞基体、底层粘接层、中间过渡层和表层构成,底层为金属Ti或Cr粘接层,中间过渡层为金属氮化物和Si层,表层为金属掺杂类金刚石碳膜;所述金属掺杂类金刚石碳膜为Ti或Cr掺杂类金刚石碳膜。
2.如权利要求1所述的涂层,其特征在于金属氮化物层为CrN或TiN。
3.如权利要求1所述的涂层,其特征在于复合涂层的底层粘接层厚度为0.2~0.4微米,中间过渡层厚度为2~3微米,表层厚度为2~3微米。
4.如权利要求1所述的涂层的制备方法,其特征在于将经过常规前处理后的铝合金活塞置于多弧离子镀-磁控溅射复合气相沉积真空系统中,依次沉积以下多层梯度膜:(1)磁控溅射Ti粘接层,将工件置于磁控溅射真空系统中,以金属Ti靶为阴极,工作气体为氩气,沉积时间5~10min;(2)多弧离子镀沉积TiN或CrN层,金属Ti靶或Cr靶为阴极,工作气体为氩气和氮气,处理时间为30~40min;(3)磁控溅射沉积Si层,控制射频电源功率为300~500W,偏压为-300V,处理时间为30~40min;(4)Ti或Cr金属掺杂类金刚石梯度复合涂层沉积,沉积过程中,真空室的本底真空为5×10-4Pa,放电气压为0.5Pa,氩气和甲烷混合气氛,活塞样品上施加800~1000V的负偏压,通过逐渐增加甲烷流量以及逐渐降低Ti靶或Cr靶工作电流来获得Ti含量或Cr含量梯度变化的金属掺杂类金刚石表层,处理时间为150~250min,自然冷却,最后在铝合金活塞表面获得多层梯度类金刚石复合涂层。
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