[发明专利]一种提高印制电路板盲孔对准度的方法无效

专利信息
申请号: 200910089356.6 申请日: 2009-07-17
公开(公告)号: CN101959373A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: 朱兴华 申请(专利权)人: 北大方正集团有限公司;珠海方正科技多层电路板有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K3/02
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100871 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 印制 电路板 对准 方法
【权利要求书】:

1.一种提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

在电路板次层上制作标靶;

将覆盖在次层标靶上的铜箔和绝缘层去掉,露出次层标靶;

用上述次层标靶进行盲孔对位开窗。

2.如权利要求1所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于:所述在电路板次层上制作标靶的具体操作为:

在次层电路板铜面上贴干膜;

通过曝光将设计好的标靶图形转移到干膜上;

进行显影、蚀刻。

3.如权利要求2所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,还包括退去标靶上覆盖的干膜的操作。

4.如权利要求3所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,所述标靶图形为直径2-5mm之间的圆形铜盘。

5.如权利要求1所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于:所述去掉次层标靶上的铜箔和绝缘层的具体操作为:

采用激光开标靶机将覆盖在次层标靶上的铜箔和绝缘层用激光烧掉,露出次层标靶。

6.如权利1所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于:用上述次层标靶进行盲孔对位开窗的具体操作包括:

铜面贴膜,在干净的铜面上贴干膜;

利用所述次层标靶进行对位,将设计好的盲孔图形通过曝光转移到板面指定的位置;

显影蚀刻,将需要钻盲孔位置的铜箔蚀刻掉;

退膜。

7.如权利1所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于:还包括激光钻孔的操作,所述激光钻孔的具体操作为:

通过次层标靶进行对位,对准后采用激光在开窗的位置钻出盲孔。

8.如权利要求1-7所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,所述标靶个数为4个,分别放置于电路板板面的四个角上。

9.如权利要求8所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,所述对位具体为:次层标靶作为对位的基准点,在曝光时将电路板与底片之间进行对位。

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