[发明专利]一种提高印制电路板盲孔对准度的方法无效
| 申请号: | 200910089356.6 | 申请日: | 2009-07-17 | 
| 公开(公告)号: | CN101959373A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 | 
| 发明(设计)人: | 朱兴华 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;珠海方正科技多层电路板有限公司 | 
| 主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42;H05K3/02 | 
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 | 
| 地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 提高 印制 电路板 对准 方法 | ||
1.一种提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
在电路板次层上制作标靶;
将覆盖在次层标靶上的铜箔和绝缘层去掉,露出次层标靶;
用上述次层标靶进行盲孔对位开窗。
2.如权利要求1所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于:所述在电路板次层上制作标靶的具体操作为:
在次层电路板铜面上贴干膜;
通过曝光将设计好的标靶图形转移到干膜上;
进行显影、蚀刻。
3.如权利要求2所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,还包括退去标靶上覆盖的干膜的操作。
4.如权利要求3所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,所述标靶图形为直径2-5mm之间的圆形铜盘。
5.如权利要求1所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于:所述去掉次层标靶上的铜箔和绝缘层的具体操作为:
采用激光开标靶机将覆盖在次层标靶上的铜箔和绝缘层用激光烧掉,露出次层标靶。
6.如权利1所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于:用上述次层标靶进行盲孔对位开窗的具体操作包括:
铜面贴膜,在干净的铜面上贴干膜;
利用所述次层标靶进行对位,将设计好的盲孔图形通过曝光转移到板面指定的位置;
显影蚀刻,将需要钻盲孔位置的铜箔蚀刻掉;
退膜。
7.如权利1所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于:还包括激光钻孔的操作,所述激光钻孔的具体操作为:
通过次层标靶进行对位,对准后采用激光在开窗的位置钻出盲孔。
8.如权利要求1-7所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,所述标靶个数为4个,分别放置于电路板板面的四个角上。
9.如权利要求8所述的提高电路板盲孔对准度的方法,其特征在于,所述对位具体为:次层标靶作为对位的基准点,在曝光时将电路板与底片之间进行对位。
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