[发明专利]化学清洗系统无效

专利信息
申请号: 200910087484.7 申请日: 2009-06-23
公开(公告)号: CN101575710A 公开(公告)日: 2009-11-11
发明(设计)人: 冯雨田;徐平;年伟;唐希英 申请(专利权)人: 杭州锦江集团有限公司
主分类号: C23G3/00 分类号: C23G3/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 王朋飞
地址: 310005浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 化学 清洗 系统
【权利要求书】:

1、一种化学清洗系统,包括用于清洗待清洗设备的化学清洗槽,其特征在于,所述化学清洗系统还包括设置在化学清洗槽与待清洗设备之间的加热套管,所述加热套管由嵌套在一起的内管和外管组成,所述内管用于输送清洗液,所述外管用于输送蒸汽。

2、如权利要求1所述的化学清洗系统,其特征在于,所述化学清洗槽与所述待清洗设备之间还设置有导管,用于使清洗液在清洗完毕后回流到所述化学清洗槽。

3、如权利要求1所述的化学清洗系统,其特征在于,所述蒸汽的温度为133℃-158℃。

4、如权利要求3所述的化学清洗系统,其特征在于,所述蒸汽的压力为0.3MPa-0.6MPa。

5、如权利要求1所述的化学清洗系统,其特征在于,所述加热套管中的加热面积为30m2

6、如权利要求1所述的化学清洗系统,其特征在于,所述加热套管的内管为多个。

7、如权利要求1-6中任一项所述的化学清洗系统,其特征在于,所述清洗液为碱液。

8、一种化学清洗方法,其特征在于,所述方法包括步骤:

S1,将化学清洗槽内的清洗液输送至加热套管的内管,向加热套管的外管中通入蒸汽对所述清洗液加热;

S2,经过加热的清洗液被输送至待清洗设备对其进行清洗;

S3,清洗后的清洗液回流至化学清洗槽。

9、如权利要求8所述的化学清洗方法,其特征在于,所述蒸汽的温度为133℃-158℃。

10、如权利要求8或9所述的化学清洗方法,其特征在于,所述蒸汽的压力为0.3MPa-0.6MPa。

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