[发明专利]扫描蒸镀制膜的方法及设备有效
| 申请号: | 200910087009.X | 申请日: | 2009-06-22 |
| 公开(公告)号: | CN101619441A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
| 发明(设计)人: | 冯焕培;黎志欣;王军 | 申请(专利权)人: | 北京京运通科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30 |
| 代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 | 代理人: | 闫立德 |
| 地址: | 100176北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 扫描 蒸镀制膜 方法 设备 | ||
技术领域
本发明属于一种扫描蒸镀制膜的设备。
背景技术
薄膜光伏电池,包括CIGS光伏电池可替代单晶硅材料用作太阳能发电,晶 体硅材料作为光伏发电材料价格昂贵,制作难度大,成本高,难以推广使用。 最新的科学显示可以用在玻璃或其他材料的基板上用电子枪蒸镀方法镀数层金 属和非金属薄膜来替代晶体硅材料用作太阳能发电,这种新材料价格低廉,利 于推广使用。用电子枪蒸镀方法镀数层金属薄膜在基板上,要求薄膜必须厚度 均匀,但目前的设备难以达到这样的要求。传统的电子枪蒸镀设备包括一个真 空腔体,真空腔体内下端固定设置若干个电子枪,待镀的基板置于电子枪上端, 完成电子枪蒸镀制膜。这种传统的设备不能保证基板上薄膜厚度的均匀,往往 造成靠近电子枪的基板上薄膜厚,反之,则薄。而薄膜厚度的不均匀使玻璃基 板光电转换率大幅下降,质量一致性差,难以在市场上推广使用。
发明内容
本发明的目的是设计一种扫描蒸镀制膜的设备,该设备使电子枪在移动 状态下进行喷镀,镀膜均匀,简便可行,其设备具有镀膜均匀,速度快,价格低, 质量好,可大幅度提高基板光电转换率,大幅延长其使用寿命的优点。
为此,本发明设置使工作状态下的电子枪摆动的装置,使电子枪在移动状态 下进行喷镀。
实现本发明的设备是电子枪位于摆动装置上,电子枪在移动状态下进行喷 镀。
所述的摆动装置是:扫描支架,呈中空T字形,呈T字形扫描支架的上端位 于真空腔体内,扫描支架与真空腔体之间通过磁流体密封装置轴接,扫描支架 下端连接大带轮;摆盘,呈中空T字形,位于呈T字形扫描支架的上端两侧,摆 盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接,摆盘下端设有摆盘轮,摆盘上端设有 电子枪;传动装置,包括传动扫描支架的电机、减速器、传送轮、传送带和传 动摆盘的电机、传送轮和传送带,传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描 支架内,传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮,传动扫描支架的电 机通过减速器、传送轮和传送带带动扫描支架转动。
所述的摆动装置还可是:扫描支架,呈中空T字形,呈T字形扫描支架的上 端位于真空腔体内,扫描支架与真空腔体之间通过磁流体密封装置轴接,扫描 支架下端连接大带轮;摆盘,呈中空T字形,位于呈T字形扫描支架的上端两侧; 传动装置,由传动扫描支架的电机、减速器、传送轮、传送带所构成,传动扫 描支架的电机通过减速器、传送轮和传送带带动扫描支架转动。
所述的摆动装置还可是:扫描支架,其内中空,扫描支架的一端位于真空 腔体内其上设有摆盘,位于真空腔体内的扫描支架与真空腔体之间通过密封波 纹管轴接,扫描支架另一端位于真空腔体外并与直线导轨滑配,位于真空腔体 外的扫描支架侧端与滚珠丝杆螺接;摆盘,呈中空T字形,位于真空腔体内的扫 描支架内侧上端,摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接,摆盘下端设有摆 盘轮,摆盘上端设有电子枪。
所述的摆动装置还可是:扫描支架,其内中空,扫描支架的一端位于真空 腔体内其上设有摆盘,位于真空腔体内的扫描支架与真空腔体之间通过密封波 纹管轴接,扫描支架另一端位于真空腔体外并与直线导轨滑配,位于真空腔体 外的扫描支架侧端与滚珠丝杆螺接;摆盘,呈中空T字形,位于真空腔体内的扫 描支架内侧上端,摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接,摆盘下端设有摆 盘轮,摆盘上端设有电子枪;传动装置,包括传动扫描支架的电机、电机轮、 传送带、传送轮、受传送轮带动的滚珠丝杆和传动摆盘的电机、传送轮和传送 带,传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内,传动摆盘的电机通过 传送轮和传送带带动摆盘轮,传动扫描支架的电机通过电机轮、传送带、传送 轮和受传送轮带动的滚珠丝杆带动扫描支架左右移动。上述结构设计达到了本 发明的目的。
本发明的优点是使电子枪在移动状态下进行喷镀,镀膜均匀,简便可行。该 设备使电子枪在移动状态下进行喷镀,具有镀膜均匀,速度快,价格低,质量 好,可大幅度提高基板光电转换率,并大幅延长其使用寿命。利于在市场上推 广使用。
附图说明
图1是本发明的结构示意图
图2是图1的A-A剖面局部结构示意图
图3是本发明的结构示意图
图4是图3的A-A剖面局部结构示意图
图5是本发明的使用状态结构示意图
图6是本发明的另一实施例结构示意图
具体实施方案
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