[发明专利]三片式微型散热器

说明书

技术领域

本发明三片式微型散热器，属于光电子领域，涉及到功率型光电子和微电子器件的散热制冷，主要用于解决大功率半导体激光器单管及列阵器件的散热问题。

背景技术

散热技术是光电子和微电子器件经常面对的棘手问题，尤其对于半导体器件来说，由于温度对半导体材料的禁带宽度、带边吸收和发射带等物理特性有重要影响，体现在宏观上，即器件的基本光电特性如功率-电流特性、光谱曲线等随着温度会发生较大的变化，如对于大功率半导体激光器列阵器件来说，随着器件温度的升高，斜率效率降低、输出功率减少、中心波长产生红移，这些特性的变化对于实际应用极为不利。所以如何将器件工作中产生的废热耗散掉是半导体光电子和微电子器件研究中重要的方向之一。

发明内容

本发明的目的在于，提出了一种三片式微型散热器，主要作为散热热沉用于大功率半导体激光器单管或列阵器件的主动制冷，具有结构合理、制作容易及散热效果佳的优点。

本发明提供一种三片式微型散热器，包括：

一上盖，为矩形，该上盖上横向上下开有两个上出水孔和上入水孔，在上盖纵向下面的一侧固定有一层直立排列的散热层；

一通水层，为矩形，与上盖对应，该通水层上横向上下开有中出水孔和中入水孔，在通水层的纵向上面的一侧开有一矩形凹槽，该矩形凹槽可以容纳上盖下面的散热层，在该矩形凹槽和中出水孔的一侧端之间有一条形凹槽，在该矩形凹槽的底面靠近通水层顶端处开有一狭缝，该狭缝上下贯通；

在该通水层的背面，与矩形凹槽同侧开有一背凹槽，该背凹槽与狭缝连通，在背凹槽和中进水孔背面的一侧端之间有一条形凹沟；

一密封层，该密封层与上盖相对应，横向上下开有下出水孔和下入水孔；

该上盖扣合在通水层上，上盖下面的散热层位于通水层的矩形凹槽内，该密封层盖合在通水层的下面。

其中上盖、通水层和密封层均为具有高导热率的金属材料，为紫铜或无氧铜。

其中上盖、通水层和密封层的预定位置分别纵向开有两个定位孔，所述各定位孔同心。

其中通水层上面的矩形凹槽、条形凹槽，背面的背凹槽和条形凹沟采用数控机床机械加工制成，槽的深度小于通水层厚度的1/2。

其中上盖、通水层和密封层为焊接，焊接是采用银铜扩散焊接法。

其中散热层由若干菱形柱状散热柱组成，采用线切割技术加工而成。

其中散热层的面积为9.5mm×3mm。

其中水流方向与列阵器件出光方向相反，可以更好地对器件工作过程中最热的部位一出光腔面进行良好的散热。

本发明提出的散热器中流体流动的方向与激光输出的方向相反，减小了散热路经，提高了散热能力。

附图说明

以下通过结合附图及实施例的详细描述，进一步说明本发明的结构和特点，其中：

图1是本发明提出的三片式微型散热器的立体结构示意图；

图2是图1中的通水层2的立体结构示意图。

图3是三片式微型散热器的工作过程示意图。

具体实施方式

请参阅图1及图2所示，本发明一种三片式微型散热器，包括：

一上盖1(参阅图1a)，为矩形，该上盖1上横向上下开有两个上出水孔11和上入水孔12，在上盖1纵向下面的一侧固定有一层直立排列的散热层13，总面积为9.5mm×3mm，其中包含若干菱形柱状散热柱，相对两条菱形边之间的距离为200微米，相邻两个菱形之间距离为300微米，散热片高度为600微米；

一通水层2(参阅图1b)，为矩形，与上盖1对应，该通水层2上横向上下开有中出水孔21，在通水层2的纵向上面的一侧开有一矩形凹槽24，该矩形凹槽24可以容纳上盖1下面的散热层13，在该矩形凹槽24和中出水孔21的一侧端之间有一条形凹槽25，在该矩形凹槽24的底面靠近通水层2顶端处开有一狭缝23，该狭缝23上下贯通；

在该通水层2的背面(参阅图2)，与矩形凹槽24同侧开有一背凹槽24’，该背凹槽24’与狭缝23连通，在背凹槽24’和中进水口22背面的一侧端之间有一条形凹沟25’；sshd所述的矩形凹槽24、条形凹槽25、背凹槽24’和条形凹沟25’采用数控机床机械加工制成，槽的深度小于通水层2厚度的1/2；

一密封层3(参阅图1c)，该密封层3与上盖1相对应，横向上下开有下出水孔11’和下入水孔12’；

该上盖1扣合在通水层2上，上盖1下面的散热层13位于通水层2的矩形凹槽25内，该密封层3盖合在通水层2的下面。