[发明专利]基于单根碳纳米管的纳米电极制作方法有效
申请号: | 200910080999.4 | 申请日: | 2009-03-31 |
公开(公告)号: | CN101508420A | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
发明(设计)人: | 申钧;陈清;王威;张新祥 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | B82B3/00 | 分类号: | B82B3/00;G01N27/26 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 俞达成 |
地址: | 100871北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 单根碳 纳米 电极 制作方法 | ||
1.一种基于单根碳纳米管的纳米电极制作方法,包括下列步骤:
a)将单根碳纳米管组装在导电针尖上,
b)在所述碳纳米管和针尖表面覆盖绝缘层;
c)在所述针尖和另一导电针尖之间加100V以下的电压,将所述另一针尖靠近碳纳米管直至接触碳纳米管端部以烧熔端部的绝缘层,或接触碳纳米管侧部以烧熔接触处附近的绝缘层并在接触处烧断碳纳米管,从而使碳纳米管裸露,得到纳米电极。
2.如权利要求1所述的纳米电极制作方法,其特征在于,所述碳纳米管是单壁碳纳米管或多壁碳纳米管,所述多壁碳纳米管的直径在30nm以下。
3.如权利要求1所述的纳米电极制作方法,其特征在于,所述针尖和另一针尖各自为钨针尖或碳纤维针尖。
4.如权利要求1所述的纳米电极制作方法,其特征在于,步骤b通过原子层沉积方法在所述碳纳米管和针尖表面覆盖绝缘层。
5.如权利要求1所述的纳米电极制作方法,其特征在于,步骤b所述绝缘层是氧化铪材料。
6.如权利要求1所述的纳米电极制作方法,其特征在于,步骤b所述绝缘层的厚度在15-80nm的范围内。
7.如权利要求1所述的纳米电极制作方法,其特征在于,步骤c所述电压是在100V以下的直流电压。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学,未经北京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910080999.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。