[发明专利]真空测量装置控制系统及半导体加工装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种半导体加工设备，尤其涉及一种真空测量装置控制系统及半导体加工装置。

背景技术

在半导体加工过程中，干法刻蚀需要在真空环境中进行，刻蚀机的真空系统包括真空获得装置和真空测量装置，其中真空获得装置主要指泵，它的作用是把腔室由大气抽到真空。干法刻蚀需要足够高的真空(毫托级)，因此必须使用高真空泵，在半导体行业普遍使用的高真空泵为分子泵，然而分子泵不能直接抽大气，所以就需要一个前级泵，称为干泵。腔室的真空达到什么状态需要测量装置来测量，一般来说，采用的测量装置为真空规。

如图1所示，整个真空系统的工作原理是，腔室大气状态下，干泵通过阀1对腔室进行粗抽，达到一定的真空度要求时，真空规会给出一个开关信号，此信号触发分子泵的启动，同时阀1关闭，阀2、阀3打开，通过分子泵抽腔室，最终达到刻蚀工艺对腔室高真空度的要求，这一过程需要一定的控制方式进行控制。

如图2所示，现有技术中的控制方式是，电源给真空规供电，真空规一方面把读到的腔室压力值上传给工控机进行显示；另一方面在到达一定压力的时候，给硬件互锁电路输出一个开关信号，硬件互锁电路得到这个开关信号后，进行处理，给出可以开分子泵的使能信号，之后，工控机对分子泵发出启动信号，如此分子泵启动执行。

上述现有技术至少存在以下缺点：

分子泵启动后，如果由于外界因素真空规不能给出这个开关信号，分子泵就不会使能，此时分子泵就会被迫停止。这种外界因素可能是腔室进气系统流量过大引起，此时分子泵停止属于正常状态。然而还有一些外界因素，比如真空规环境温度瞬间波动，真空规瞬间接线不良，也会使得这个开关信号给不出来，也会引发分子泵停止，对于这种瞬间想象造成的分子泵频繁起停不但伤害分子泵，还影响整个工艺流程，影响设备的产能。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够避免由于真空规的瞬间故障造成的分子泵频繁起停的真空测量装置控制系统及半导体加工装置。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：

本发明的真空测量装置控制系统，包括真空测量装置、真空获得装置，所述真空测量装置通过电源供电，所述真空测量装置与所述电源之间连接有监控复位电路；

当所述真空测量装置向所述真空获得装置发出的开关信号失效时，所述监控复位电路对所述真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。

本发明的半导体加工装置，包括工艺腔室，该工艺腔室连接有上述的真空测量装置控制系统。

由上述本发明提供的技术方案可以看出，本发明所述的真空测量装置控制系统及半导体加工装置，由于真空测量装置与电源之间连接有监控复位电路，当真空测量装置向真空获得装置发出的开关信号失效时，监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程，对于真空测量装置由于环境因素波动引起的瞬间故障，能够通过复位过程排除，避免造成分子泵的频繁起停。

附图说明

图1为现有技术中半导体加工设备的真空系统工作原理示意图；

图2为现有技术中真空测量装置控制系统的原理示意图；

图3为本发明的真空测量装置控制系统的原理示意图；

图4为本发明中监控复位电路的原理图；

图5为本发明的真空测量装置控制系统的控制流程图。

具体实施方式

本发明的真空测量装置控制系统，其较佳的具体实施方式如图3所示，包括真空测量装置、真空获得装置，真空获得装置包括分子泵，真空测量装置与分子泵之间连接有硬件互锁电路，真空测量装置的开关信号通过硬件互锁电路转换为使能信号，并将该使能信号传递给分子泵，用于驱动分子泵的运行。

真空测量装置通过电源供电，真空测量装置与电源之间连接有监控复位电路，真空测量装置可以为真空规或真空开关或压力传感器等。

当真空测量装置向真空获得装置发出的开关信号失效时，监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。

如图4所示，监控复位电路包括继电器K，真空测量装置(如真空规)通过继电器K的常闭触点与电源连接。

真空测量装置控制系统包括工控机，工控机接收真空测量装置的开关信号，并判断该信号是否失效，如果失效，则控制监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。复位过程的断电与上电之间的时间间隔为0.5～1.5秒，如1.0秒等。当工控机判断开关信号失效时，还可以对系统设备进行一次排查，以便检查设备是否有故障存在。