[发明专利]真空测量装置控制系统及半导体加工装置无效
| 申请号： | 200910078368.9 | 申请日： | 2009-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN101819438A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 武小娟 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G05B23/02 | 分类号： | G05B23/02;G01L21/00 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人： | 赵镇勇 |
| 地址： | 100016 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 测量 装置 控制系统 半导体 加工 | ||
1.一种真空测量装置控制系统，包括真空测量装置、真空获得装置，所述真空测量装置通过电源供电，其特征在于，所述真空测量装置与所述电源之间连接有监控复位电路；
当所述真空测量装置向所述真空获得装置发出的开关信号失效时，所述监控复位电路对所述真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。
2.根据权利要求1所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，所述监控复位电路包括继电器，所述真空测量装置通过继电器的常闭触点与所述电源连接。
3.根据权利要求1所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，所述真空测量装置为真空规或真空开关或压力传感器。
4.根据权利要求1所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，包括工控机，所述工控机接收所述开关信号，并判断该信号是否失效，如果失效，则控制所述监控复位电路对所述真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。
5.根据权利要求1或4所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，所述复位过程的断电与上电之间的时间间隔为0.5～1.5秒。
6.根据权利要求5所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，所述复位过程的断电与上电之间的时间间隔为1.0秒。
7.根据权利要求4所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，当所述工控机判断所述开关信号失效时，对系统设备进行一次排查。
8.根据权利要求1所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，所述真空获得装置包括分子泵，所述真空测量装置与所述分子泵之间连接有硬件互锁电路，所述真空测量装置的开关信号通过所述硬件互锁电路转换为使能信号，并将该使能信号传递给所述分子泵，用于驱动所述分子泵的运行。
9.一种半导体加工装置，包括工艺腔室，其特征在于，该工艺腔室连接有权利要求1至8任一项所述的真空测量装置控制系统。
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