[发明专利]一种X-射线滤光片的制备方法

权利要求书

1.一种X-射线滤光片的制备方法，其特征在于，该方法以金属氧化物纳米粒子为基质材料，有机高分子分散液为基底材料，按照1∶5-2∶1的基质/基底重量比混合，通过自动涂膜机和湿膜制备器，制备均匀分散的金属氧化物纳米粒子/有机高分子薄膜，即得；

其中，所述分散液中有机高分子浓度为20％。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，金属氧化物纳米粒子与有机高分子分散液的重量比为1∶2-1∶1。

3.如权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，包括如下的步骤：

(1)将金属氧化物粒子加入到有机高分子材料分散液中，进行超声处理，制备得到金属氧化物纳米粒子/有机高分子的混合液；

(2)将上述混合液铺展在自动涂膜机上，通过调节湿膜制备器的厚度，制备均匀分散的金属氧化物纳米粒子/有机高分子薄膜，应用于X-射线滤光片。

4.如权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述金属氧化物纳米粒子均匀分散的有机高分子薄膜的厚度为0.06mm-0.25mm。

5.如权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述金属氧化物为氧化铁、氧化镍、氧化锌、氧化锆、氧化钛、氧化铜、氧化钴、氧化锰、氧化钒、氧化镓、氧化锗、氧化镱、氧化铷或氧化钼，其粒径为5nm-100nm。

6.如权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述有机高分子为聚氨酯、有机玻璃、尼龙、环氧树脂、醇酸树脂或聚酯。

7.如权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述有机高分子材料分散液为有机高分子材料分散在乙醇、二甲苯、环己酮和乙酸乙酯中一种或多种有机溶剂的分散液。

8.权利要求1-7任一所述的制备方法制得的X-射线滤光片。

9.如权利要求8所述的X-射线滤光片，其特征在于，所述X-射线滤光片的厚度为0.06mm-0.25mm。