[发明专利]海水澄清池扰流构造及其澄清池无效

专利信息
申请号: 200910068099.8 申请日: 2009-03-12
公开(公告)号: CN101530681A 公开(公告)日: 2009-09-16
发明(设计)人: 张雨山;王静;王树勋;赵瑾;姜天翔;邱金泉;张秀芝 申请(专利权)人: 国家海洋局天津海水淡化与综合利用研究所
主分类号: B01D21/02 分类号: B01D21/02;B01D21/24
代理公司: 天津伊加知识产权代理有限公司 代理人: 王念冬
地址: 300192*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 海水 澄清 池扰流 构造 及其
【说明书】:

技术领域

本案涉及海水净化处理技术领域,特别是改进扰流构造的澄清池。

背景技术

目前,海水净化处理反应澄清池内依靠沉淀下来的污泥进行循环,利用 还有絮凝活性的污泥与加入絮凝剂的海水进行接触絮凝,提高海水絮凝沉淀 效果。

如已公开的中国专利申请200710038625.7一种高效澄清水处理装置和工 艺属水处理技术领域,具体为一种高效澄清水处理装置和工艺。装置的中间部 位为两个容积絮凝室,其内设有网孔扰流装置,容积絮凝室下部为预沉室。活 性泥渣悬浮层在容积絮凝室的外侧周围,其上方设置斜管,下方设置浓缩室, 排渣管均匀设置在活性泥渣悬浮层中,澄清池的底部为排泥斗,有虹吸排泥管 与排泥斗连通。在容积絮凝室的上部周围设有排渣槽,由管道与排泥管连通, 虹吸排泥管与污泥回用池相连;排泥斗与回用污泥泵相连。本装置的水处理工 艺集小气浮、容积絮凝、活性泥渣层絮凝及回用技术于一体,与传统混凝沉淀 工艺相比,节省占地40%,投药量约降低10%,处理效率提高15%。

再如已公开的中国专利200720035134斗状网格絮凝装置,涉及水处理系 统絮凝池用网格装置,若干条经向肋和若干条纬向肋互相交织形成网格,经向 肋与纬向肋倾斜交织,即相邻的经向肋、相邻的纬向肋均按分离、靠拢交错布 设,所述的经向肋与纬向肋形成斗状网格,该装置网格尺寸小,格条窄,成形后 强度好,无阻塞,水头损失少,能大幅增加湍流微涡旋的比例,大幅增加颗粒碰 撞次数,有效地改善絮凝效果,同时大大缩短反应时间,减小了设备体积,节省 基建费用,降低制造成本。

又如已公开的中国专利申请200680019998涉及一种水净化装置,包括沉 降池、浮选池、用于将含有杂质的水作为流动流传送到沉淀池中的流动通道 和用于将净化后的水排出水净化装置的单元。从沉降池导出的流动通道与设 置在浮选池中并含有微小气泡的混合通道相连接,在沉淀池中仍然含有少量 杂质的水被设置成经由流动通道流入混合通道,剩余的杂质粘附到在混合通 道中的微小气泡上并且同这些微小气泡一起上升到浮选池的上表面。

已知的技术尚不能解决的问题是:在澄清池的运行过程中,往往存在加 药海水在澄清池的混合反应区内流动状态不佳,海水流动距离过短,与回流 污泥的混合程度不够,致使澄清池悬浮泥渣层浓度不够,并且其中含有较多 的细小矾花。这样就使以加入絮凝剂的海水生成的细小矾花与池内悬浮泥渣 层污泥碰撞、长大作为净化机理的澄清池净化效果较差。澄清池运行负荷达 不到设计要求,出水水质较差,增加了后续过滤工艺的处理负荷。

发明内容

本案所要解决的问题在于,克服袭用技术存在的上述缺陷,而提供一种 海水澄清池扰流构造及其澄清池。

本案解决扰流构造技术问题是采取以下技术方案来实现的,依据本案提 供的一种海水澄清池扰流构造,包括扰流构造,其中:所述扰流构造由可安 装在澄清池之第一反应室内的第一扰流单元和可安装在澄清池之第二反应室 内的第二扰流单元组成。

本案解决扰流构造技术问题还可以采用以下技术措施来进一步实现:

前述的海水澄清池扰流构造,其中:所述第一扰流单元由预设层数的第 一扰流板构成,所述第二扰流单元由预设层数层第二扰流板构成,各层第二 扰流板之间的间距为b;各层第一扰流板之间的间距为3/4b。

前述的海水澄清池扰流构造,其中:

所述第一扰流板、第二扰流板均分布设置镂空方网格,形成不同目数的 网筛构造;该第一扰流板和第二扰流板分别按预设组合方式设置目数,第一 扰流板镂空方网格的网眼尺寸依照澄清池内海水流向设置为从小到大顺序排 列;第二扰流板镂空方网格的网眼尺寸也依照澄清池内海水流向设置为从小 到大顺序排列。

前述的海水澄清池扰流构造,其中:所述第一扰流单元由3层第一扰流 板构成,各层第一扰流板之间的间距为600mm,所述第一扰流板具有50mm× 50mm的镂空方网格;该3层第一扰流板设置为相同构造。

前述的海水澄清池扰流构造,其中:所述第二扰流单元由2层第二扰流 板构成,各层第二扰流板之间的间距为800mm;所述第二扰流板具有100mm× 100mm的镂空方网格;该2层第二扰流板设置为相同构造。

前述的海水澄清池扰流构造,其中:所述第一扰流单元与搅拌浆浆端之 间留有预设的间距;所述第二扰流单元与第二反应室的底板之间留有预设的 间距。

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