[发明专利]解决测试Pad使用中耐压问题的电路及方法有效

专利信息
申请号: 200910057702.2 申请日: 2009-08-04
公开(公告)号: CN101989465A 公开(公告)日: 2011-03-23
发明(设计)人: 董乔华;姚翔 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: G11C29/00 分类号: G11C29/00;G11C16/06
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 孙大为
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 解决 测试 pad 使用 耐压 问题 电路 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种半导体测试电路及方法,具体涉及一种存储器测试用电路及方法。

背景技术

目前,为了让一个测试Pad能够无损地测量正、负电压,通常的做法是将测试Pad相关电路NMOS管的栅和衬底接到最低电位。现假设最高正电压为VPOS,最低负电压为VNEG,从而NMOS管的栅和衬底接到VNEG。这样在测试Pad测试VPOS的时候,NMOS管的漏(Drain)端到栅(Gate)端和衬底(Sub)端之间的偏置都为VPOS+|VNEG |。在现在的工艺条件下,NMOS管的击穿电压(BV)特性显示该偏置已经超过了工艺条件。

原来的做法是用两组测试Pad,一组用于测试正电压,另一组用于测试负电压,这样NMOS管的漏(Drain)端到栅(Gate)端和衬底(Sub)端之间的偏置都为VPOS或者|VNEG |,而这是符合工艺条件的。但是这会多使用一组测试Pad,耗费较大的芯片面积。

现在通常是将测试要求和工艺要求分开考虑。

1)根据现有的测试设计办法即只有一个测试Pad的情况下,根据NMOS管的偏置条件选择适合BV要求的器件,这种方法需要较好的工艺支持,可能需要设计新的器件,会增加工艺和ESD评价的成本。

2)根据现有的工艺水平,在满足器件BV的要求下,设计具体的测试方案,正如起初一样,用两组测试Pad,一组测试正电压范围的信号,一组测试负电压范围的信号。这种方法会增加系统的面积。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种本发明的目的是要在当前的工艺条件之下,减少系统面积,解决测试要求和器件击穿电压BV特性之间的矛盾。

为了解决以上技术问题,本发明提供了一种解决测试Pad使用中耐压问题的电路;包括:测试Pad模块,包括MOS管;存储器模块与测试Pad模块中MOS管的漏极相连接;有电压转换电路与存储器模块相连接;电压转换电路与测试Pad模块中MOS管的栅极和衬底相连接,调节MOS管栅极和衬底电位,电压转换电路向测试Pad模块输出电压V1,输出至测试Pad中的MOS管栅极和衬底;当测试信号为最高正电压时,调整电压V1的电位到一电压;当测试信号为负电压时,调整电压V1为另一电压。

本发明的有益效果在于:该技术通过调整测试Pad中的MOS管栅极Gate和衬底Sub电位,在只有一组测试Pad的前提下,仍然是测试Pad的MOS器件的各端点之间的电压差满足器件的工艺条件,从而顺利完成存储器所需的测试。这样就解决了解决测试Pad和器件耐压问题之间的矛盾,避免了牺牲芯片面积或工艺开发新器件。

本发明还提供了上述解决测试Pad使用中耐压问题的电路的使用方法,包括以下步骤:

将测试Pad相关电路中NMOS管的栅极和衬底端引出标注V1;

电压转换电路根据控制信号选择不同的输出电位;

将正电压范围的信号和负电压范围的信号分类,用不同的测试模式标识;

存储器模块中的控制电路测试到正电压范围信号时控制电路输出信号Tm=电源电压,测试到负电压范围信号时输出信号Tm=零电压;

当Tm=电源电压时,电压转换电路输出V1为一电压;Tm=零电压时,电压转换电路输出V1另一电压。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。

图1是本发明实施例示意图;

图2是本发明实施例测试正电压范围信号时各节点电位的示意图;

图3是本发明实施例测试负电压范围信号时各节点电位的示意图。

具体实施方式

本发明是为满足利用一组测试Pad同时满足测试正、负电压的要求,通过设计模块处理测试Pad对应NMOS的栅极Gate和衬底Sub端电位,解决出现的耐压问题(NMOS管的偏置电压超出BV)。

如图1所示,模块1就是普通的测试Pad示意图,图中NMOS管起静电放电ESD保护;模块2就是Flash或EEPROM模块;模块3就是调节NMOS管栅极Gate和衬底Sub电位的电压转换(level shift)电路。

如图2所示,当测试信号为最高正电压VPOS时,调整V1的电位到零电压Vgnd。如图3所示,当测试信号为负电压VNEG时,调整V1为负电压VNEG。这样可以保证正、负电压都可以无损通过测试Pad,此时NMOS管的漏(Drain)端到栅(Gate)端和衬底(Sub)端之间的偏置电压降低到最高正电压VPOS以下,该电压低于NMOS管的漏源击穿电压BV,从而满足工艺条件。

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