[发明专利]反射投影成像投影图中心的对准方法无效

专利信息
申请号: 200910055005.3 申请日: 2009-07-17
公开(公告)号: CN101623201A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 金晓峰;刘立人;孙建锋;职亚楠;鲁伟;严毅 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 反射 投影 成像 投影图 中心 对准 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及反投影成像系统,特别是一种反射投影成像投影图中心的对准方法。在反投影成像系统中,存在目标物体平动所产生的旋转中心偏移问题,最终将导致不同角度下反射投影中心失配,重建图像发生错位。本发明方法利用特征点的投影信息可以迅速快捷的实现不同角度反射投影中心的校准,操作简单,易于实现。

背景技术

在医学计算机辅助层析(简称为CT)中,根据一维透射投影信息实现两维图像重建已经得到广泛的应用和发展。所得到的一维透射投影信息反应的是在多个不同角度下,物体内部不同部位透射系数的差异。反投影成像的内容为重建图像某一点的光强密度值可看作这一平面内所有经过该点的射线投影值之和。

如图1透射层析所示,f(x,y)为待建图像,Lr,φ为对应的直线r=xcosφ+ysinφ,p(r,φ)为f(x,y)沿直线Lr,φ的透射特征系数的积分,即角度φ所对应的一维透射投影:

p(r,φ)=Lr,φf(x,y)ds---(1)]]>

用反投影成像方法重建图像g(x,y),则:

g(x,y)=Σi=1mp(xcosφi+ysinφi,φi)Δφ---(2)]]>

其中,φi为第i次投影所对应的角度,Δφ为投影角度采样间隔,m为总的投影个数。

反射层析(基于距离)类似于上述CT反投影重建图像的操作过程,其实质是将到源点某一距离的有限表面区域反射所得的投影信息,反投影到离源点同此距离的所有区域,如图2反射层析激光雷达所示。所不同的是CT依据的透射特征系数,只需要0-π的透射投影信息,而反射层析依据的是反射特征系数,需要0-2π的反射投影信息。

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