[发明专利]一种用于可编程逻辑器件的增益单元eDRAM无效

专利信息
申请号: 200910052912.2 申请日: 2009-06-11
公开(公告)号: CN101923890A 公开(公告)日: 2010-12-22
发明(设计)人: 林殷茵;薛晓勇 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G11C11/401 分类号: G11C11/401
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 可编程 逻辑 器件 增益 单元 edram
【权利要求书】:

1.一种用于可编程逻辑器件的增益单元eDRAM,包括读MOS晶体管、写MOS晶体管、写字线、读字线、写位线、读位线以及等效寄生电容;写MOS晶体管的栅极连接于写字线,写MOS晶体管的漏端/源端连接于写位线,写MOS晶体管的源端/漏端连接于所述等效寄生电容的存储电荷端,读MOS晶体管的栅极连接于所述等效寄生电容的存储电荷端,读MOS晶体管的漏端/源端连接于读位线,读MOS晶体管的源端/漏端连接于读字线;其特征在于,还包括置于所述等效寄生电容与开关管的栅极之间的隔离MOS管,所述等效寄生电容的存储电荷端通过隔离MOS管传输电平控制所述可编程逻辑器件的开关管的状态。

2.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述等效寄生电容为写MOS晶体管的有源区寄生电容、读MOS晶体管的栅电容、隔离MOS管的有源区电容中的一种,或者为写MOS晶体管的有源区寄生电容、读MOS晶体管的栅电容、隔离MOS管的有源区电容的组合。

3.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述隔离MOS管为NMOS晶体管或者PMOS晶体管。

4.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述写MOS晶体管和读MOS晶体管均为PMOS晶体管。

5.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述写MOS晶体管和读MOS晶体管均为NMOS晶体管。

6.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述可编程逻辑器件为现场可编程门阵列。

7.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述隔离MOS管的栅极受选通线控制。

8.根据权利要求7所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述写字线、写位线、读字线、读位线和选通线受外围存储控制电路模块的控制。

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