[发明专利]一种用于可编程逻辑器件的增益单元eDRAM无效
| 申请号: | 200910052912.2 | 申请日: | 2009-06-11 |
| 公开(公告)号: | CN101923890A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
| 发明(设计)人: | 林殷茵;薛晓勇 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
| 主分类号: | G11C11/401 | 分类号: | G11C11/401 |
| 代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
| 地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 可编程 逻辑 器件 增益 单元 edram | ||
1.一种用于可编程逻辑器件的增益单元eDRAM,包括读MOS晶体管、写MOS晶体管、写字线、读字线、写位线、读位线以及等效寄生电容;写MOS晶体管的栅极连接于写字线,写MOS晶体管的漏端/源端连接于写位线,写MOS晶体管的源端/漏端连接于所述等效寄生电容的存储电荷端,读MOS晶体管的栅极连接于所述等效寄生电容的存储电荷端,读MOS晶体管的漏端/源端连接于读位线,读MOS晶体管的源端/漏端连接于读字线;其特征在于,还包括置于所述等效寄生电容与开关管的栅极之间的隔离MOS管,所述等效寄生电容的存储电荷端通过隔离MOS管传输电平控制所述可编程逻辑器件的开关管的状态。
2.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述等效寄生电容为写MOS晶体管的有源区寄生电容、读MOS晶体管的栅电容、隔离MOS管的有源区电容中的一种,或者为写MOS晶体管的有源区寄生电容、读MOS晶体管的栅电容、隔离MOS管的有源区电容的组合。
3.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述隔离MOS管为NMOS晶体管或者PMOS晶体管。
4.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述写MOS晶体管和读MOS晶体管均为PMOS晶体管。
5.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述写MOS晶体管和读MOS晶体管均为NMOS晶体管。
6.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述可编程逻辑器件为现场可编程门阵列。
7.根据权利要求1所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述隔离MOS管的栅极受选通线控制。
8.根据权利要求7所述的增益单元eDRAM,其特征在于,所述写字线、写位线、读字线、读位线和选通线受外围存储控制电路模块的控制。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910052912.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种电源变压器原边线圈的绕制结构
- 下一篇:可转换语音为歌曲的音频合成装置





