[发明专利]掩膜修复方法

权利要求书

1.一种掩膜修复方法，通过掩膜修复机对掩膜板上的一待修复掩膜片进行修复，其特征在于包括：

确定待修复孔在待修复掩膜片上的大概位置；

在同一掩膜板上选择一完好的参照掩膜片；

在所述待修复掩膜片和所述参照掩膜片的同一位置光刻一相同的标记，所述标记和所述待修复孔之间的距离不超过掩膜修复机的视窗大小；

计算所述参照掩膜片上与待修复孔相对应的孔和所述标记间的距离；

计算所述待修复孔的位置；

修复所述待修复掩膜片；

填充所述待修复掩膜片和所述参照掩膜片上的标记。

2.根据权利要求1所述一种掩膜修复方法，其特征在于所述掩膜修复机的视窗为正方形，所述正方形的边长范围为20um至40um。

3.根据权利要求1所述一种掩膜修复方法，其特征在于所述标记为十字标记。

4.根据权利要求3所述一种掩膜修复方法，其特征在于所述待修复孔位于所述十字标记的任意一边所在的直线上。

5.根据权利要求1所述一种掩膜修复方法，其特征在于所述标记为双点标记。

6.根据权利要求5所述一种掩膜修复方法，其特征在于所述双点标记中的两点的连线不经过所述待修复孔。