[发明专利]抗氧化防电子辐射真空镀膜方法

说明书

技术领域：

本发明属于真空镀膜技术领域，特别涉及抗氧化防电子辐射真 空镀膜方法。

背景技术：

盐雾试验的目的是为了考核产品或金属材料的耐盐雾腐蚀质 量，而盐雾试验结果判定正是对产品质量的宣判，它的判定结果是 否正确合理，是正确衡量产品或金属抗盐雾腐蚀质量的关键。普通 的塑胶及金属基材的防电子辐射镀膜存在如下缺点：1、抗氧化能差， 盐雾试验(5％NaCl，35℃盐水喷雾试验机放置72hr)后镀层氧化明 显。2、附着力差，盐雾试验及高低温后(-40℃2hr～85℃2hr热冲 击试验机条件下放置24hr)附着力差。3、盐雾试验及高低温后(-40℃ 2hr～85℃2hr热冲击试验机条件下放置24hr)镀层电阻值波动比较 大。因此，普通的塑胶及金属基材的防电子辐射镀膜不能满足消费 电子结构部件对防电子辐射镀膜产品环境耐候性品质需求。

发明内容：

本发明的目的在于针对现有技术的不足而提供一种抗氧化防 电子辐射真空镀膜方法，该方法镀膜后镀膜层抗氧化性能、环境耐 候性能、附着力性能良好，电阻性测试稳定性良好。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

抗氧化防电子辐射真空镀膜方法，它包括以下步骤：

步骤一：底漆喷涂：将按照配合基准配合好的油漆注入喷枪内， 将油漆喷涂到产品镀膜的面上，将两面镀膜完成的产品放入烤箱烘 烤；

步骤二：真空镀膜：镀膜前，在真空镀膜机内加膜料，将烘烤 干燥好的产品放入转盘滚筒的夹具上，并移动到真空镀膜机内，进 行镀膜；真空镀膜一共包括五个工艺：第一次溅射Ni镀膜；第一次 蒸发Cu镀膜；第二次蒸发Ag镀膜；第二次溅射Ni镀膜；第三次 溅射Ni镀膜。

进一步地，抗氧化防电子辐射真空镀膜方法，它包括以下步骤：

步骤一：底漆喷涂

将编号为WP100∶WP10H∶WP20H的油漆按10∶1∶1配制，配制好 的油漆的油漆粘度为9.0±1秒，调和粘度为9.5±0.5秒，将配合 好的油漆注入喷枪内，底漆喷涂在温度15℃-30℃、湿度15％-80％ 的环境下进行，喷枪气压为(3.0±0.5)kgf/cm²，喷枪距产品表面 14cm-16cm的高度，以45°-75°的角度，将油漆喷涂到产品镀膜 的面上，膜厚为(8±1)um，将两面镀膜完成的产品用肉眼确认有 无未涂均匀部分，喷涂均匀的产品放入台车中，再将放入台车的产 品推入烤箱烘烤，烤箱温度为(80±5)℃，烘烤时间为60min。

步骤二：真空镀膜

镀膜前，在真空镀膜机内加膜料，将烘烤干燥好的产品放入转 盘滚筒的夹具上，并移动到真空镀膜机内，真空镀膜在温度20℃-35 ℃、湿度(65±20)％的环境下进行，真空镀膜前镀膜机镀膜真空室的 真空度为6.0×10^-5torr，进行镀膜，真空镀膜的膜厚为(1±0.5) um。真空镀膜一共包括五个工艺：第一次溅射(Ni)镀膜；第一 次蒸发(Cu)镀膜；第二次蒸发(Ag)镀膜；第二次溅射(Ni) 镀膜；第三次溅射(Ni)镀膜。

第一次溅射(Ni)镀膜的工艺条件为：氩气流量为200ml，镀 膜功率为7KW，真空度为3.0×10^-3torr条件下，溅射镀膜70s。Ni 具有很强的耐腐蚀性，第一次溅射(Ni)镀膜起到为镀膜层镀上 一层底膜，起到承上启下的作用，既能与底漆紧密结合，又能与上 层C u镀膜结成致密的镀膜层，提高镀膜层附着性能和耐腐蚀性能。

第一次蒸发(Cu)镀膜的工艺条件为：采用铜(Cu)作为镀 膜材料，将材料制成重量为54g，长度为5cm的铜丝，将铜丝放在钼 舟内，镀膜前延时60s，在450A电流下预热40s，650A电流下蒸发 镀膜200s，镀膜真空度为6.0×10^-5torr。Cu具有良好的导电性能， 第一次蒸发(Cu)镀膜能够增强镀膜层的导电性能。

第二次蒸发(Ag)镀膜的工艺条件为：采用银(Ag)作为镀 膜材料，将材料制成重量为34g，长度为5cm的银丝，将银丝放在钼 舟内，镀膜前延时60s，在450A电流下预热408，650A电流下蒸发 镀膜200S，镀膜真空度为6.0×10^-5torr。Ag具有良好的导电性能 和抗腐蚀、抗氧化性能，第二次蒸发(Ag)镀膜能够增强镀膜层的 导电性能、抗腐蚀、抗氧化性能。