[发明专利]激光直接绘制装置无效
| 申请号: | 200910003408.3 | 申请日: | 2009-01-12 |
| 公开(公告)号: | CN101526736A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
| 发明(设计)人: | 安藤护俊 | 申请(专利权)人: | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈 坚 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光 直接 绘制 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种激光直接绘制装置。
背景技术
在激光直接绘制法(激光直接绘制:laster Direct Imaging(以下记作LDI))中,通过将多条激光束投射到搭载在移动台上的作为对象物的基板等的预先确定好的位置上,来在基板上的光刻胶中形成布线图案的潜像,通过按照布线图案数据来执行潜像的形成,能够不使用光掩模而直接进行曝光。由此,能够缩短曝光过程的时间,在印刷布线基板的制造中也在逐渐使用激光直接绘制法。
在该LDI中,使用为空间光调制器的DMD(数字微镜器件:DigitalMicromirror Device)分别对激光束的启动/关闭(ON/OFF)进行控制。在DMD中形成有多个(例如,1024×768个)大小为14μm见方的反射镜,能够对反射镜的连通和切断个别地进行控制(专利文献1)。基板构成为:其载置在移动台上,在使该移动台向一个方向移动的同时,向线形图案的相应位置照射光束,从而在涂布在基板上的光刻胶上形成布线图案的潜像。在该光学系统中,需要以μm级别的精度向预期的部位照射光束,通过将DMD的反射镜阵列配置成相对于扫描方向(移动台的移动方向)旋转预定角度,来提高析像度(专利文献2至4)。
通过图11对此进行说明。DMD的旋转方向是进行光束位置的调整方面最重要的项目。由此,能够将光束投影到比DMD自身的元件间隔还要小的位置。在图11的(A)中,设DMD的光束间隔为p,设其倾角为θ的话,则与相邻的光束之间的差分Δd为p·θ。通过使角度θ为很小的值,能够使Δd为间隔d的1/10以下。但是,若如图11的(B)所示使θ从预定值偏移到(θ+Δθ),则与相邻光束位置的间隔仅有微小的改变(εd=p·Δθ)。相邻光束之间的偏移的大小很小,而在相距n个间隔的光束之间的差分(E)是n·εd,因此差分(E)的值比想要调整的间隔d要大。
专利文献1:日本特开2004-9595
专利文献2:日本特开2004-181723
专利文献3:日本特开2007-10758
专利文献4:日本特开2007-219011
专利文献5:日本特开2007-47561
如上所说明的那样,以往是利用使搭载有DMD的光学系统整体旋转,或者是使搭载有基板的台旋转的方法来进行调整,然而,仅进行这样的机械的角度调整的话,存在不能得到预定精度的问题。为了解决该问题,还公开了如下方式(文献5):设置两个楔状的棱镜,调整该两个棱镜的厚度和倾角,由此来对光束的焦点(z方向)和x、y方向的位置分别进行调整,然而却不能以足够的精度来调整激光束的间隔。
发明内容
本发明的目的在于解决上述现有技术的问题。
为了达成上述目的,本发明的激光直接绘制装置通过使多条激光束接通和切断地照射到对象物上,来形成预定图案的潜像,其特征在于,该激光直接绘制装置具有:板状的透射体,其设于所述对象物上,并使所述多条激光束透射;以及将该板状的透射体的两端向相反方向扭转的构件,通过调整该扭转构件的扭转角来调整所述多条激光束之间的间隔。
本发明的激光直接绘制装置具有能够精度良好且简单地进行光束的投射位置的旋转调整的效果。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式的概要图。
图2是表示本发明的一个实施方式的动作的说明图。
图3是表示本发明的一个实施方式的动作的说明图。
图4是表示本发明的一个实施方式的动作的说明图。
图5是表示本发明的一个实施方式的动作的说明图。
图6是表示本发明的一个实施方式的动作的说明图。
图7是表示本发明的一个实施方式的动作的说明图。
图8是表示本发明的其他实施方式的概要图。
图9是表示本发明的其他实施方式的概要图。
图10是表示本发明的一个实施方式的动作的说明图。
图11是现有例的说明图。
标号说明
1:玻璃板;2:扭转控制装置;5:激光;6:光束放大光学系统;7:DMD;8:成像光学系统;10:端部;11:角部;20:固定框架;21:压电元件;22:高度调整螺钉;25:固定框架;26:框体;40:线阵CCD;50:控制装置;51:布线图案存储装置;52:DMD控制装置;53:台控制装置;60:台;70:DMD元件;71:DMD元件。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社阿迪泰克工程,未经株式会社阿迪泰克工程许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910003408.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





