[发明专利]显示装置、液晶显示装置、有机EL显示装置、薄膜基板以及显示装置的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示装置、薄膜基板以及显示装置的制造方法。

背景技术

近几年，在显示器领域，使用与玻璃基板相比在柔性、耐冲击性、轻量性方面具有巨大优势的塑料基板等的柔性基板非常引人注目，存在创造出玻璃基板显示器不可能的新型显示器的可能性。

在形成柔性基板那样的薄膜器件的情况下，提出有预先在另行准备的支撑基板上形成薄膜器件，然后将其转印到所希望的基板上的技术。

这种技术，公开在例如专利文献1等中。根据专利文献1，首先，在第1工序中，在第1基材上形成由含有氢的非晶硅膜构成的第1分离层后，在第2工序中，在第1分离层上形成薄膜器件层。然后，在第3工序中，在薄膜器件层上粘接第2基材后，对第1分离层照射激光进行从非晶硅膜到多晶硅膜的相转变和氢气的产生，使第1分离层产生剥离现象，剥掉第1基材，由此来制造薄膜器件。

专利文献1：日本特开2001-51296号公报

发明内容

本发明的显示装置的特征在于：具备第1基板，其具有基体层和设置在基体层上的显示元件层，第1基板的基体层由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成。

另外，本发明的显示装置还具备第2基板亦可，上述第2基板被设置成与第1基板对置，具有由无色透明的树脂膜构成的基体层和设置在基体层上的显示元件层。

并且，在本发明的显示装置中，由耐热温度为150℃以上、热膨胀系数为10ppm/℃以下的树脂材料形成的牺牲膜与显示元件层的非显示区域对应地形成在显示元件层和基体层之间亦可。

另外，在本发明的显示装置中，显示元件层具备多个像素区域和设置成划分像素区域的遮光区域，牺牲膜所对应的显示元件层的非显示区域是遮光区域亦可。

并且，在本发明的显示装置中，显示元件层具备外围电路区域，牺牲膜所对应的显示元件层的非显示区域是外围电路区域亦可。

另外，在本发明的显示装置中，牺牲膜是聚酰亚胺系树脂亦可。

并且，在本发明的显示装置中，无色透明的树脂膜是聚对二甲苯系树脂亦可。

另外，在本发明的显示装置中，在基体层与显示元件层之间，还具备元件层保护膜亦可。

并且，在本发明的显示装置中，基体层形成控制显示装置的弯曲或者翘曲的厚度亦可。

本发明的液晶显示装置，其特征在于：具备TFT基板，其具有基体层和显示元件层，所述基体层由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成，所述显示元件层具备设置在基体层上的TFT(薄膜晶体管：Thin Film Transistor)元件；和CF(滤色器)基板，其隔着液晶材料与TFT基板对置，并且具有基体层和具备设置在基体层上的滤色器的显示元件层。

本发明的底部发光型有机EL(电致发光)显示装置，其特征在于：具备：基体层，其由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成；第1电极，其设置在基体层上；有机EL层，其设置在第1电极上；以及第2电极，其设置在有机EL层上。

另外，本发明的底部发光型有机EL显示装置，还具备密封膜亦可，其中，上述密封膜设置在第2电极上，由树脂膜和无机膜的层叠体构成。

本发明的薄膜基板，其特征在于：具备基体层和显示元件层，上述基体层由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成，上述显示元件层设置在基体层上。

本发明的显示装置的制造方法，其特征在于，具备如下步骤：第1步骤，准备设有牺牲膜的支撑基板，上述牺牲膜由耐热温度为150℃以上、热膨胀系数为10ppm/℃以下的树脂材料形成；第2步骤，在牺牲膜上形成元件层保护膜；第3步骤，在元件层保护膜上形成显示元件层；第4步骤，从牺牲膜去除支撑基板；第5步骤，从元件层保护膜去除牺牲膜；以及第6步骤，在室温下向去除了牺牲膜的保护膜上蒸镀无色透明的树脂膜，由此形成基体层。

另外，本发明的显示装置的制造方法，还具备贴合基板形成步骤，在形成两个形成有显示元件层的支撑基板后，使它们的显示元件层对置来形成贴合基板，其中，上述显示元件层是通过反复进行第1步骤到第3步骤而形成的；在第4步骤中，分别从贴合基板的牺牲膜去除支撑基板，在第5步骤中，分别从贴合基板的元件层保护膜去除牺牲膜，在第6步骤中，在室温下向去除了牺牲膜的元件层保护膜蒸镀无色透明的树脂膜，由此分别形成基体层亦可。

并且，本发明的显示装置的制造方法，在第5步骤中，保留与显示元件层的非显示区域对应的牺牲膜，去除与除此之外的区域对应的牺牲膜亦可。