[发明专利]显示装置、液晶显示装置、有机EL显示装置、薄膜基板以及显示装置的制造方法有效
| 申请号: | 200880123794.3 | 申请日: | 2008-10-16 |
| 公开(公告)号: | CN101911158A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
| 发明(设计)人: | 安松拓人 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
| 主分类号: | G09F9/30 | 分类号: | G09F9/30;G02F1/1333;G02F1/1368;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/04;H05B33/10 |
| 代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示装置 液晶 有机 el 薄膜 以及 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,
具备第1基板,上述第1基板具有基体层和设置在该基体层上的显示元件层,
上述第1基板的基体层由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成。
2.根据权利要求1所述的显示装置,
还具备第2基板,上述第2基板被设置成与上述第1基板对置,具有由无色透明的树脂膜构成的基体层和设置在该基体层上的显示元件层。
3.根据权利要求1所述的显示装置,
由耐热温度为150℃以上、热膨胀系数为10ppm/℃以下的树脂材料形成的牺牲膜与上述显示元件层的非显示区域对应地形成在该显示元件层与上述基体层之间。
4.根据权利要求3所述的显示装置,
上述显示元件层具备多个像素区域和设置成划分该像素区域的遮光区域,
上述牺牲膜所对应的上述显示元件层的非显示区域是上述遮光区域。
5.根据权利要求3所述的显示装置,
上述显示元件层具备外围电路区域,
上述牺牲膜所对应的上述显示元件层的非显示区域是上述外围电路区域。
6.根据权利要求3所述的显示装置,
上述牺牲膜是聚酰亚胺系树脂。
7.根据权利要求1所述的显示装置,
上述无色透明的树脂膜是聚对二甲苯系树脂。
8.根据权利要求1所述的显示装置,
在上述基体层与上述显示元件层之间,还具备元件层保护膜。
9.根据权利要求1所述的显示装置,
上述基体层形成控制上述显示装置的弯曲或者翘曲的厚度。
10.一种液晶显示装置,具备:
TFT基板,其具有基体层和显示元件层,所述基体层由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成,所述显示元件层具备设置在该基体层上的TFT元件;和
CF基板,其隔着液晶材料与上述TFT基板对置,并且具有基体层和显示元件层,所述基体层由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成,所述显示元件层具备设置在该基体层上的滤色器。
11.一种有机EL显示装置,是底部发光型的有机EL显示装置,具备:
基体层,其由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成;
第1电极,其设置在上述基体层上;
有机EL层,其设置在上述第1电极上;以及
第2电极,其设置在上述有机EL层上。
12.根据权利要求11所述的有机EL显示装置,
还具备密封膜,所述密封膜设置在上述第2电极上,由上述树脂膜和无机膜的层叠体构成。
13.一种薄膜基板,
具备基体层和显示元件层,上述基体层由在室温下被蒸镀的无色透明的树脂膜构成,上述显示元件层设置在该基体层上。
14.一种显示装置的制造方法,具备如下步骤:
第1步骤,准备设有牺牲膜的支撑基板,上述牺牲膜由耐热温度为150℃以上、热膨胀系数为10ppm/℃以下的树脂材料形成;
第2步骤,在上述牺牲膜上形成元件层保护膜;
第3步骤,在上述元件层保护膜上形成显示元件层;
第4步骤,从上述牺牲膜去除上述支撑基板;
第5步骤,从上述元件层保护膜去除上述牺牲膜;以及
第6步骤,在室温下向去除了上述牺牲膜的元件层保护膜上蒸镀无色透明的树脂膜,由此形成基体层。
15.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法,
还具备贴合基板形成步骤,在形成两个形成有上述显示元件层的上述支撑基板后,使它们的该显示元件层对置来形成贴合基板,其中,上述显示元件层是通过反复进行上述第1步骤到第3步骤而形成的,
在上述第4步骤中,分别从上述贴合基板的上述牺牲膜去除上述支撑基板,
在上述第5步骤中,分别从上述贴合基板的上述元件层保护膜去除上述牺牲膜,
在上述第6步骤中,在室温下向去除了上述牺牲膜的保护膜上蒸镀无色透明的树脂膜,由此分别形成基体层。
16.根据权利14所述的显示装置的制造方法,
在上述第5步骤中,保留与上述显示元件层的非显示区域对应的上述牺牲膜,去除与除此之外的区域对应的该牺牲膜。
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