[发明专利]烹调器用面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及配置在电磁加热(IH)烹调器、红外线加热烹调器、燃气烹调器等的上部的烹调器用面板及其制造方法。

背景技术

作为用于电磁加热烹调器和红外线加热烹调器的面板，能够使用低热膨胀的玻璃、陶瓷等材料。此外，出于美观性和易清洁性，在燃气烹调器中也开始使用低热膨胀的玻璃、陶瓷材料等。在上述使用玻璃等的面板中，为了在视觉上遮蔽内部的烹调器和温度传感器等，在基板上形成Ti膜等金属膜，用金属光泽等使面板变得美观。

但是，将Ti膜作为遮光层使用的面板无法着色为保护层Ti膜的色调银色以外的颜色。为此，要求能够着色为各种颜色、并且耐热性优良的烹调器用面板。

在专利文献1中，提出了将Si、Ti等各种金属膜作为遮光层使用的烹调器用面板。这里所提出的烹调器用面板，其目的在于使其为能够着色为各种颜色、并且耐热性优良的面板，但不能满足更加严格基准下的耐热性。

专利文献1：日本特开2004-333102号公报

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够着色为各种颜色、并且具有良好的耐热性的烹调器用面板及其制造方法。

本发明提供一种烹调器用面板，配置在烹调器上方，其特征在于，该烹调器用面板包括：玻璃基板；干涉层，设置在玻璃基板的一侧的面上，由氮化硅或者氮化铝构成；遮光层，设置在干涉层上，由钛或者铌构成；保护层，设置在遮光层上，由选自氮化硅、氮化锆、氮化钛、氮化钽、氮化钨和氮化铌中的至少一种物质构成，其中，干涉层和保护层是通过物理蒸镀法在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中形成的薄膜。

本发明中，在玻璃基板上，干涉层、遮光层和保护层按照该顺序叠层，使干涉层和保护层由氮化物的薄膜形成，在由物理蒸镀法形成该干涉层和保护层的氮化物的薄膜时，在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中形成。像这样，通过将在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中形成的薄膜作为干涉层和保护层使用，能够制成具有良好的耐热性的烹调器用面板。

本发明中，对于通过在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中形成干涉层和保护层而能够获得良好的耐热性的具体原因并不明确，但考虑是由于通过在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中形成干涉层和保护层，能够形成致密的氮化物薄膜，即使进行耐热性试验中的加热，其膜厚变化也较少，因而表现出良好的耐热性。其中，本发明中，耐热性指的是在耐热性试验中色调变化少。

本发明中，优选干涉层和保护层在耐热性试验中膜厚的变化为10％以内。

本发明中，如上所述，在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中形成干涉层和保护层。若N₂气的含量过少，则无法获得良好的耐热性。N₂气的更优选的范围为95～100体积％，进一步优选为97.5～100体积％。

本发明中，干涉层由氮化硅或者氮化铝的氮化物薄膜形成。通过改变该干涉层的膜厚，能够将烹调器用面板着色为各种颜色。优选干涉层的膜厚为5～250nm的范围。若膜厚过薄，则存在难以获得玻璃基板与干涉层、以及干涉层与遮光层之间的干涉效果，无法着色为各种颜色的情况。此外，膜厚过厚也存在无法获得相应的技术效果，在经济上不利的情况。当干涉层由氮化硅形成时，进一步优选其膜厚为50～250nm的范围。此外，当干涉层由氮化铝形成时，进一步优选其膜厚为5～50nm的范围。

本发明中，遮光层由钛或者铌形成。通过使遮光层由钛或者铌形成，能够获得良好的耐热性。优选遮光层的膜厚为75～150nm的范围。若遮光层的膜厚过薄，则存在用于遮蔽烹调器的内部结构的遮蔽力低下，从而影响美观的情况。此外，遮光层的膜厚过厚也存在无法获得相应的技术效果，在经济上不利的情况。

在本发明中，保护层由选自氮化硅、氮化锆、氮化钛、氮化钽、氮化钨和氮化铌中的至少一种氮化物薄膜形成。通过由这样的氮化物薄膜形成，能够获得良好的耐热性。优选保护膜的膜厚为50～200nm的范围内。若保护层的膜厚过薄，则存在无法获得良好的耐热性的情况。此外，保护层的膜厚过厚也存在无法获得相应的技术效果、在经济上不利的情况。

本发明的烹调器用面板具有良好的耐热性。作为本发明的烹调器用面板，优选其在500℃的温度下进行30分钟的耐热性试验后的色度变化中，色度的指标x和y均为0.03以内。