[发明专利]烹调器用面板及其制造方法

权利要求书

1.一种烹调器用面板，配置在烹调器上方，其特征在于，该烹调器用面板包括：

玻璃基板；

干涉层，设置在所述玻璃基板的一侧的面上，由氮化硅或者氮化铝构成；

遮光层，设置在所述干涉层上，由钛或者铌构成；

保护层，设置在所述遮光层上，由选自氮化硅、氮化锆、氮化钛、氮化钽、氮化钨和氮化铌中的至少一种物质构成，

所述干涉层和所述保护层是通过物理蒸镀法在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中形成的薄膜。

2.如权利要求1所述的烹调器用面板，其特征在于：

所述干涉层的厚度为5～250nm的范围内。

3.如权利要求1或者2所述的烹调器用面板，其特征在于：

所述遮光层的厚度为75～150nm的范围内。

4.如权利要求1～3中任一项所述的烹调器用面板，其特征在于：

所述保护层的厚度为50～200nm的范围内。

5.如权利要求1～4中任一项所述的烹调器用面板，其特征在于：

在500℃的温度下进行30分钟的耐热性试验后的色度变化中的x和y均为0.03以内。

6.一种烹调器用面板的制造方法，用于制造权利要求1～5中任一项所述的烹调器用面板，其特征在于，该制造方法包括：

通过物理蒸镀法，在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中，在所述玻璃基板上形成所述干涉层的工序；

在所述干涉层上形成所述遮光层的工序；

通过物理蒸镀法，在N₂气的含量为90～100体积％的气体气氛中，在所述遮光层上形成所述保护层的工序。