[发明专利]用于热气处理的设备

权利要求书

1.一种用于对承载在环形输送装置上的物体进行热气处理的设备， 其中所述设备包括：

分成两个或多个部段的壳体，其中第一部段包括用于相对第二部段移 动所述第一部段的装置；

环形传输带，该环形传输带设置在所述壳体内且在第一端和第二端伸 到所述壳体外侧，其中所述环形传输带具有适合承载物体的上部运行部和 下部返回运行部；

设置在所述壳体内的两个或多个气体调节单元，其中所述单元沿所述 环形传输带一个在另一个下游地设置，以将已处理气体向环形传输带引导；

基本上气密的分隔部，该分隔部使气体调节单元彼此分隔以形成单独 的处理区域，其中所述处理区域仅与相邻的环形传输带连接；

其中，除了所述环形传输带的第一端和第二端，所述壳体基本完全包 绕所述气体调节单元、分隔部处理区域和环形传输带，

其中，所述设备在至少一个处理区域中还包括：

加热或冷却元件，设有气体通道，由此允许气体与所述加热或冷却元 件进行热交换；

风扇，所述风扇具有进入侧和排出侧；

气体压力分配系统，该气体压力分配系统与风扇的排出侧或气体调节 单元连接，且还包括设置在所述环形传输带上方的上部气体分配腔，所述 腔具有上板元件和下板元件，其中下板元件的至少一部分具有孔或冲击喷 嘴，在使用过程中，上板元件基本与所述壳体的一个部段接合。

2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，一个或多个通道连接上 部气体分配腔和一个或多个设置在环形传输带下方的下部气体分配腔，其 中各个通道部分地与壳体的一部段一体，其中，所述一个或多个通道包括 设置在环形传输带的上部运行部下方、且横向于环形传输带的传输方向的 下部气体分配通道，所述下部气体分配腔的上板元件具有孔或冲击喷嘴。

3.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述设备是冷却器， 所述气体调节单元包括蒸发器。

4.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述设备是冷却器， 且对环形传输带上的物体的气体处理包括冲击工艺过程。

5.如权利要求1所述的设备，其特征在于，对环形传输带上的物体 的气体处理包括气体鼓吹工艺过程，其中所述下板元件具有横向于环形传 输带传输方向设置的纵向较窄的孔，在使用中，上板元件基本上与所述壳 体的一个部段接合。

6.如权利要求5所述的设备，其特征在于，所述孔具有导向板形式 的气体导向装置，其中所述气体导向装置提供逆着或沿着环形传输带的传 输方向的气流。

7.如权利要求1所述的设备，其特征在于，上板元件和下板元件构 造成通过向内和/或向外滑动该板元件而取下，且可由相同或不同类型的板 替换。

8.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述壳体可水平分开， 其中环形传输带、两个或多个气体调节单元、和将气体调节单元彼此分隔 以形成单独的处理区域的基本气密的分隔部设置在所述壳体的下部段上； 上部段可通过伸缩提升装置从所述下部段抬高或降低到下部段上，其中在 降低的位置，下部段和上部段包绕所述设备，除了环形传输带的第一端和 第二端；在上部段的抬高位置，可容易地靠近环形传输带、两个或多个气 体调节单元、以及将气体调节单元彼此分隔以形成单独的处理区域的基本 上气密的分隔部，以进行检查、维修、保养和清洁。

9.如权利要求1所述的设备，其特征在于，壳体的部段包括用于在 所述部段相互接触时形成基本气密的组件的装置。

10.如权利要求3所述的设备，其特征在于，蒸发器设置用于通过所 述蒸发器的水平气流，压力分配系统包括与设置在所述环形传输带上方的 上部气体分配腔和设置在所述环形传输带下方的下部气体分配腔连接的蒸 发器下游的压力分配部段，气体在已经过输送装置上的物体之后被部分地 沿着输送装置、主要在下部气体分配腔下方导向所述风扇的进入侧。